Gebraucht ULTRA-T EQUIPMENT / UTE SCS i124 #9190017 zu verkaufen

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ULTRA-T EQUIPMENT / UTE SCS i124
Verkauft
ID: 9190017
Wafergröße: 8"
Wafer clean tool, 8".
ULTRA-T EQUIPMENT/UTE SCS i124 ist ein High-End-Wafer und Maskenwäscher, der entwickelt wurde, um überlegene Reinigungsleistung und verbesserte Prozessausbeute für die Halbleiterwafer- und Maskenherstellung zu bieten. UTE SCS i124 ist ideal für mikroelektronische Anwendungen wie die Herstellung von Wafern, die Herstellung von optischen Geräten oder jedes Verfahren, das saubere Masken oder Waferoberflächen erfordert. ULTRA-T EQUIPMENT SCSI124 umfasst die Reinigungstechnologien von ULTRA-T auf höchstem Niveau mit einer motorgetriebenen Wäscherbürste und leistungsstarker Ultraschallbewegung. Diese Kombination von Reinigungsverfahren ermöglicht die Entfernung von bis zu 2 µm Partikeln sowohl von Wafer- als auch von Maskenoberflächen in einem Durchgang ohne Beschädigung des Substrats, was den Abbildungsprozess erheblich verbessert. Der Wafer- und Maskenwäscher wird von einem präzisionsgesteuerten Wassersprühsystem angetrieben, das eine gleichmäßige Verteilung von Waschmittel und entlocktem Wasser über die gewaschene Oberfläche aufbringt. Ein integriertes Spülsystem reinigt dann den Wafer oder die Maske, um sicherzustellen, dass Partikel vor der Bildgebung entfernt werden. Zu den weiteren Merkmalen des ULTRA-T SCS i124 gehören ein einfach zu bedienendes Touchscreen-Bedienfeld für präzise Reinigungseinstellungen und eine Seitentür zum bequemen Be- und Entladen. Darüber hinaus ist der Wäscher ergonomisch und einfach zu bedienen, mit einem Schwenkarm, der kippt und schwenkt, um eine einfache Positionierung für verschiedene Arten von Wafer- oder Maskenreinigungsaufgaben zu ermöglichen. Das ULTRA-T ULTRA-T EQUIPMENT/UTE SCSI124 ist in der Lage, Anwendern verbesserte Prozessausbeuten, sauberere Wafer- und Maskenoberflächen und qualitativ hochwertigere Bilder zu bieten. Darüber hinaus ermöglichen seine fortschrittlichen Reinigungstechnologien einen schnelleren Durchsatz und einen geringeren Verschleiß auf Substraten, was zu weniger Ausschusswerten und qualitativ hochwertigeren Produkten führt.
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