Gebraucht ULTRATECH PC 602 #186831 zu verkaufen

ULTRATECH PC 602 Wafer and Mask Scrubber ist eine automatisierte Ausrüstung zum Reinigen und Waschen von Substraten wie Photomasken und Wafern für Halbleiter- und Mikroelektronik-Anwendungen. Es verwendet ein sehr zuverlässiges Fördersystem, um Substrate durch den Prozess zu transportieren und die höchste Reinigungspräzision, Wiederholbarkeit und Genauigkeit zu liefern. PC 602 Wafer und Maske Scrubber ist mit einem modularen Konzept konzipiert, das Werkzeugintegration, Prozesseinstellungen und Datenmanagement einfach macht. Seine benutzerfreundliche Oberfläche bietet eine einfache und zugängliche Methode für Bediener, um den Prozess zu steuern, zu bedienen und zu überwachen. Die intelligente Prozesslogik des Scrubbers ermöglicht eine leistungsstarke Datenverwaltung und Rückverfolgbarkeit von Substratparametern, Zeitplan und Geschichte während des gesamten Reinigungsprozesses. ULTRATECH PC 602 Wafer und Maske Scrubber verwendet ein Dualkammer-Design, das es dem Scrubber ermöglicht, Wafer in einem kontinuierlichen Zyklus auf derselben Linie zu bearbeiten, was zu signifikanten Durchsatz- und Produktivitätsverbesserungen führt. Die Flexibilität von Zweiprozesskammern ermöglicht das Waschen verschiedener Substrate im gleichen Prozess ohne manuelles Schalten. Das Gerät verfügt auch über eine vollautomatische Werkzeug „Mechanisierung“ Maschine für einfachen Wechsel zwischen verschiedenen Substraten. Die Waffelkassetten des Werkzeugs bieten ein schnelles und einfaches Ladeerlebnis, und es ist kein Klemmen oder Werkzeugwechsel erforderlich. Der Schrubber ist zudem mit einem optischen Oberlastassistenten und einer präzisen Belastbarkeit für eine präzise Substratplatzierung ausgestattet. PC 602 Wafer und Maske Scrubber ist mit einem anspruchsvollen, hochauflösenden pneumatischen Tauchwerkzeug ausgestattet. Die Kolben sorgen für gleichmäßigen Druck und präzise Linearität während des gesamten Waschprozesses und sorgen für perfekte Prozessergebnisse. Der Wäscher ist so konzipiert, dass er verschiedene Wafergrößen, Maskengrößen und Substrattypen unterstützt und somit konkurrenzlose Flexibilität und Skalierbarkeit bietet. Darüber hinaus verfügt ULTRATECH PC 602 Wafer und Maske Scrubber über eine Vielzahl von Sicherheitsfunktionen, wie automatische Abschaltung bei Stromverlust, und automatische Abschaltung bei Überhitzung oder Verlust der Stromversorgung. Diese Sicherheitsmerkmale garantieren, dass die Anlage den Sicherheitsstandards der Industrie entspricht und einen jahrelangen zuverlässigen Betrieb durchhält. PC 602 Wafer und Maske Scrubber ist eine fortschrittliche, zuverlässige Lösung zum Schrubben von Masken und Wafersubstraten. Seine außergewöhnliche Flexibilität, seine intuitive Benutzeroberfläche und die Aufmerksamkeit auf die Sicherheit sorgen für Zuverlässigkeit und hohe Leistung.