Gebraucht VEECO / SSEC M3303 #293651181 zu verkaufen

VEECO/SSEC M3303 Wafer and Mask Scrubber ist eine Maschine zur Reinigung von Wafern und Photomasken vor der Herstellung und Inspektion. Der Wäscher verwendet eine oszillierende Bürste und gefilterte Luftstrahlen, um Partikel von der Wafer- oder Photomaskenoberfläche physikalisch zu schrubben und abzublasen. Die oszillierende Bürste hilft, eine gründliche Partikelentfernung zu gewährleisten und die gefilterten Luftstrahlen entfernen die Partikel schnell und sauber und fördern schnelle Prozesszeiten. Der Wäscher bietet auch eine Vakuumreinigungsfähigkeit, um lose Partikel von schwer erreichbaren Oberflächen zu entfernen. SSEC M3303 ist ein kompaktes System, das einfach zu installieren ist und eine minimale Wartung erfordert. Der Schrubber bietet eine breite Palette von einstellbaren Parametern, so dass Benutzer den Schrubbprozess für spezifische Anwendungsanforderungen anpassen können. Benutzer können die Geschwindigkeit und Bewegung der oszillierenden Bürste einstellen, die Vakuum- und Aerosolfiltereinstellungen auswählen und die Luftstrahlgeschwindigkeit und -höhe programmieren. Der Schrubber ist mit zuverlässigen und langlebigen Komponenten, wie Edelstahllager und Bürstenköpfe gebaut. Der Bürstenkopf verfügt über starre Borsten, die entwickelt wurden, um Partikel von der Wafer- oder Photomaskenoberfläche effektiv zu entfernen, während sie schonend genug sind, um die Oberfläche unverletzt zu lassen. Bürstenkopf und Lagerbaugruppen sind über die Frontplatte des Wäschers zugänglich, was die Wartung und den Austausch von Komponenten schnell und einfach macht. Der Wäscher ist mit vordefinierten Prozessen ausgelegt, um konsistente Waschergebnisse zu gewährleisten. Alle Prozessparameter können anwenderprogrammiert und im System gespeichert werden, um den Scrubbing-Prozess zu beschleunigen und die Prozessänderung zu vereinfachen. Der Wäscher bietet auch ein Rückverfolgbarkeitsprotokoll, das die Geschichte jedes Reinigungsprozesses aufzeichnet. Neben Wafern und Photomasken können VEECO M3303 Wafer und Mask Scrubber auch zur Reinigung anderer Kleinteile und Komponenten eingesetzt werden. Die Einheit ist kompatibel mit mehreren Arten von Behältern, so dass eine einfache Beladung von mehreren Teilen. Die Flexibilität und Vielseitigkeit dieses Schrubbers ermöglicht es dem Benutzer, den Schrubbprozess anzupassen und anzupassen, um eine Vielzahl von kleinen Teilen und Oberflächen zu reinigen. Die Zuverlässigkeit, Haltbarkeit und Rückverfolgbarkeit des Wäschers machen es zu einer idealen Wahl für diejenigen, die Wafer und Photomasken konsequent mit hochwertigen Ergebnissen reinigen müssen.