Gebraucht YANG-GIAO PS-306 #9150786 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
YANG-GIAO PS-306 ist ein Wafer- und Maskenwäscher zur sanften und effektiven Reinigung empfindlicher mikroelektronischer Substrate. Der Wäscher wurde speziell entwickelt, um Oberflächenschäden und Kontaminationen zu minimieren und ein zuverlässiges Reinigungssystem bereitzustellen. Der Wäscher verwendet eine patentierte Reinigungstechnologie, die Niederdruck-Wasserstrahlen und oszillierende Bürsten verwendet, um Staub, Partikel und andere Verunreinigungen von Oberflächen schnell und gründlich zu entfernen, ohne die empfindlichen Substrate zu beschädigen. Seine Hochdruckpumpe hat einen maximalen Ausgangsdruck von 2,2 MPa und kann 30.000 Zyklen/min erreichen, um eine tiefe und gründliche Reinigung zu gewährleisten. Der Wäscher verfügt über einen eingebauten Überlaufschutz, der Flüssigkeitsüberflutungen verhindert. Die verstellbaren Reinigungsköpfe ermöglichen auch einen präzisen und wiederholbaren Betrieb. Die Reinigungslösung selbst ist zu 100 Prozent umweltfreundlich und sicher in den meisten Fertigungsumgebungen einsetzbar. Seine spezialisierten Bürsten und Niederdruckwasserstrahlen können leicht angepasst werden, um die Größe und Form jedes Substrats aufzunehmen, um die Reinigungseffizienz zu maximieren. Dank seiner flexiblen Konstruktion kann er auch für horizontale und vertikale Reinigungsanwendungen verwendet werden. YANG-GIAO PS-106 ist auch für einfache Bedienung konzipiert, mit intuitiver grafischer Steuerung und einem großen, vollfarbigen LCD-Touchscreen für eine einfache Dateneingabe. Dies gewährleistet eine benutzerfreundliche Bedienung und Fernüberwachung. Zusammenfassend ist YANG-GIAO PS-106 Wafer und Maskenwäscher eine zuverlässige, effiziente und flexible Reinigungslösung, die speziell entwickelt wurde, um empfindliche mikroelektronische Substrate zu reinigen, ohne Oberflächenschäden oder Kontaminationen zu verursachen. Seine intuitive Benutzeroberfläche und patentierte Reinigungstechnologie machen es zu einer perfekten Lösung für jede Wafer- und Maskenwäscheanwendung.
Es liegen noch keine Bewertungen vor