Gebraucht ARTEC Eva Lite #9253485 zu verkaufen

ARTEC Eva Lite ist ein Wafer-Stepper, der eine präzise und genaue Ausrichtung für den Photomasking- und Nanofabrikationsmarkt bietet. Es wurde entwickelt, um eine kostengünstige und zuverlässige Lösung für Photomasken-Ausrichtung und Nanoimprint-Lithographie Anforderungen in Lithographie, digitale Lithographie und fortgeschrittene Masken zu bieten. Eva Lite ist hochgradig konfigurierbar und bietet eine optimale Lösung für eine kostengünstige Fotomasken-Ausrichtung. Die „Eva“ in ARTEC Eva Lite steht für „Electronic Visual Alignment“ und basiert auf einer fortschrittlichen, benutzerfreundlichen Softwareplattform. Diese Plattform bietet Anwendern eine schnelle und einfache Musterregistrierung und Maskenausrichtung, wodurch Eva Lite für anspruchsvolle Nanofabrikations- und Photomasking-Anwendungen geeignet ist. ARTEC Eva Lite verfügt über eine starre Prober-Konstruktion mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit. Es kommt auch mit einem hochpräzisen optischen Fenster, das eine genaue Beobachtung des Ausrichtvorgangs auf dem Prober bietet. Eva Lite ist hochgradig konfigurierbar und bietet dem Anwender ein breites Spektrum an verschiedenen Ausrichtungen und optischen Masken. Es bietet auch ein konfigurierbares Belichtungssystem, mit dem Benutzer je nach Auftragsanforderungen die entsprechende Belichtungseinstellung auswählen können. ARTEC Eva Lite bietet eine Trittfähigkeit bis zu einer Größe von 4,2 Zoll. Es hat eine maximale Übersetzungsgenauigkeit von 3,0 μ m und ermöglicht Benutzern eine hochpräzise Ausrichtung ihrer Muster und Masken. Eva Lite verfügt über eine schnelle automatische Kalibrierung, um die Einstellungen für die Maskenausrichtung und die Belichtung automatisch zu korrigieren und anzupassen. Es verfügt über ein Vier-Achsen-System zur hochauflösenden Ausrichtung der Maske und enthält EFEM-Tracks für maximale Schritt- und Zeitoptimierung. ARTEC Eva Lite verfügt auch über eine Reihe von On-Board-Signalgeneratoren für die Registrierung von Mustern hoher Bandbreite, was die Genauigkeit des Maskenausrichtungsprozesses weiter verbessert. Um wiederholbare Genauigkeit zu gewährleisten, verfügt Eva Lite über ein integriertes Embedded Memory System, mit dem Benutzer ihre vorherige Ergebniseinrichtung speichern und die Ergebnisse zwischen verschiedenen Läufen vergleichen können. Darüber hinaus verfügt es über eine umfassende Prozesssteuerungsschnittstelle, mit der Anwender den Workflow einfach verwalten und wiederholbare Ergebnisse sicherstellen können. Darüber hinaus ist ARTEC Eva Lite von SEMI® zertifiziert und entspricht strengen Industriestandards. Insgesamt ist Eva Lite ein äußerst zuverlässiger und kostengünstiger Wafer-Stepper, der eine präzise Ausrichtung für den Photomasking- und Nanofabrikationsmarkt ermöglicht. Das Leistungsspektrum und die Konfigurierbarkeit machen es zu einer idealen Lösung für Produktions- und Forschungsanwendungen.