Gebraucht ASML AT-1150C #9412396 zu verkaufen

ASML AT-1150C
Hersteller
ASML
Modell
AT-1150C
ID: 9412396
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Stepper, 12" 2004 vintage.
ASML AT-1150C ist ein fortschrittliches Belichtungswerkzeug für die Lithographie in der Halbleiterindustrie. Es ist ein modernster Wafer-Stepper, der für hohe Geschwindigkeit, hohen Durchsatz und niedrige Betriebskosten konzipiert wurde. ASML AT 1150C nutzt fortschrittliche Optik, eine hochstabile und genaue Inspektionsausrüstung und ein einzigartiges Wafer-Handling-System für den automatisierten, unbemannten Betrieb. AT:1150C besteht aus drei Hauptkomponenten: einer optischen Einheit, einer Inspektionsmaschine und einem Wafer-Handhabungswerkzeug. Die optische Anlage nutzt eine Quecksilber-in-Dampf-Expositionsquelle mit einer Wellenlänge von 6,0 mm und ein Puls-Sprüh-Scanmodell. Dies bietet eine hohe Auflösungsfähigkeit mit einer Präzision von 1,5 nm und einem Bildfeld von 215 mm × 215 mm. Die Inspektionsausrüstung basiert auf einem Real Time Scan System, das ein Quadrant Detector Array mit In-Pixel Detektoren verwendet. Diese Einheit ist in der Lage, jedes Element des Belichtungsprozesses zu überwachen, mit der Fähigkeit, eine detaillierte Karte des Wafers zu erstellen. Schließlich ist die Wafer-Handling-Maschine so konzipiert, dass sie einen automatisierten, unbemannten Betrieb mit niedrigen Gesamtbetriebskosten ermöglicht. Es verwendet eine Edelstahlbahn, die bis zu vier Wafer unterstützt und mit bis zu 19 benutzerdefinierbaren Programmen vorprogrammiert werden kann. AT-1150C ist in der Lage, dünne Filme, Mehrschichtfolien und alle Arten von Wafersubstraten wie Quarz, Silizium und Metall zu handhaben. Zusätzlich ist es mit einem Schicht-Wafer-Ausrichtwerkzeug zur präzisen Wafer-Positionierung ausgestattet, wodurch die Wafer-Fehlausrichtung während der Belichtung reduziert wird. Es ist auch mit einer Anti-Kontamination-Wartungsanlage ausgestattet und kann Partikel bis zu 0,2 µm handhaben. Insgesamt ist AT 1150C ein fortschrittliches Belichtungswerkzeug, das die oft strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie erfüllt. Seine fortschrittlichen optischen, Inspektions- und Wafer-Handling-Systeme machen es zur idealen Wahl für hohe Geschwindigkeit, hohen Durchsatz und niedrige Betriebskosten.
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