Gebraucht ASML AT 1200B #293602555 zu verkaufen

ASML AT 1200B ist ein modernster Wafer-Stepper für die Lithographie in der Halbleiterherstellung. Es bietet eine hohe Genauigkeit und Reproduzierbarkeit, die für die Strukturierung der nanoskaligen Strukturen auf modernen ICs unerlässlich ist. Der Wafer-Stepper besteht aus wenigen verschiedenen Teilen. Sein Optikmodul enthält mehrere verschiedene Linsen, darunter die Retikelobjektivlinse, die das Abbildungslicht auf den photoresistbeschichteten Wafer fokussiert. Das Retikel wird in einem Retikelhalter gehalten und präzise über den Wafer gescannt. Eine Waferstufe dient zum Verschieben und Drehen des Wafers unter der Abbildungsoptik. Der Stepper verfügt außerdem über ein Beleuchtungssystem mit einer beweglichen Xenonlampe, die eine präzise Einstellung der zur Belichtung des Photolacks verwendeten UV-Lichtenergie ermöglicht. Zur automatischen Ausrichtung und Überwachung des Musterprozesses ist auch ein Kamerasystem vorgesehen. Der Stepper wird von einem computergesteuerten Controller-Modul betrieben, das eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche zum Einrichten und Verwalten der Prozessparameter des Steppers beinhaltet. Dies ermöglicht eine hohe Präzision, Wiederholbarkeit und Flexibilität bei der Anpassung an neue Gewebe oder Prozesseinstellungen. Der Stepper enthält auch mehrere integrierte Sicherheitsfunktionen, um sicherzustellen, dass er ordnungsgemäß funktioniert und Schäden an kritischen Komponenten oder Expositionen verhindert. Neben seiner Genauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht der modulare Aufbau des Steppers eine einfache Installation und Wartung sowie separate elektrische und mechanische Komponenten für schnellere und effektivere Reparaturen. Der Stepper ist aufgrund seiner fortschrittlichen bildgebenden Algorithmus-Technologie und der Fähigkeit, Wafer schnell und zuverlässig zu mustern, ideal für Produktionseinstellungen. Insgesamt ist ASML AT-1200B ein hochgenauer und anspruchsvoller Wafer-Stepper, der das höchste Niveau an Lithographieleistung erreicht. Es ist in der Lage, extrem präzise nanoskalige Muster zu erzeugen und bietet eine hohe Geschwindigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit für moderne IC-Produktionsprozesse.