Gebraucht ASML AT 1200B #293752358 zu verkaufen

ASML 1200B ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der bei der Herstellung von integrierten Schaltungen (ICs) verwendet wird. Es ist ein photolithographisches Werkzeug, das ultraviolettes Licht und Photoresists verwendet, um ICs zu mustern. ASML 1200B ist ein Wafer-Level, Step-and-Repeat-Gerät mit einem verbesserten optischen Design und einem steileren Säulenwinkel. Dadurch kann mehr Licht auf die Oberfläche des Wafers gelangen, was einen schnelleren Durchsatz und höhere Durchsatzausbeuten ermöglicht. Der Stepper hat auch eine höhere Genauigkeit, mit einer Merkmalsgröße von bis zu 0,6 Mikron und einer Ausrichtungsgenauigkeit von weniger als einem Mikron. ASML 1200B verfügt über ein vielseitiges Ausrichtungssystem. Es kann Linienspreizfunktionen (LSFs), kritische Dimensionsuniformität (CDU), Kantenplatzierungsgenauigkeit (EPA), niedrige Partikelwerte (LPLs) und andere Parameter erzeugen, die für eine optimale Geräteleistung erforderlich sind. Das Gerät bietet auch einstellbare Belichtungseinstellungen und einen Dummy-Feldmonitor (DFM), um die Ausbeute des IC-Musterprozesses zu optimieren. Darüber hinaus bietet der Stepper eine automatische Fokuseinstellung, die es der Maschine ermöglicht, ständig zu überwachen und sich auf den optimalen Fokus einzustellen. Der Stepper verfügt auch über programmierbare Parameter für eine Reihe von Belichtungseinstellungen. ASML- 1200B können eine Vielzahl von Photoresists und Antireflexbeschichtungen (ARCs) für eine optimale Lithographiemusterung verarbeiten. Es kann sowohl positive als auch negative Photoresists zur präzisen Optimierung von Gerätetypen handhaben. Das Werkzeug ist in der Lage, Einwerkscheiben mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll zu bearbeiten. Das Gerät hat auch die Fähigkeit, Mehrwerkzeugscheiben mit einem Durchmesser von bis zu 12 Zoll für einen schnelleren Durchsatz zu verarbeiten. Zusammenfassend ist ASML 1200B ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der einen verbesserten Durchsatz, höhere Gerätegenauigkeit, programmierbare Parameter und einstellbare Belichtungseinstellungen für einen optimierten Gerätemusterungsprozess bietet. Es ist in der Lage, sowohl Einzel- als auch Mehrfachstempelscheiben sowie eine Reihe von Photoresists und ARC-Materialien zu handhaben und bietet eine hervorragende Leistung bei der Herstellung integrierter Schaltungen.