Gebraucht ASML AT400S #293621264 zu verkaufen
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ID: 293621264
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2001
Scanner
With TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12
Wavelength: 365nm.
ASML AT400S Wafer Stepper ist ein Photolithographiewerkzeug zur Herstellung und Übertragung von Mustern auf ein Halbleitersubstrat. Dieser Stepper hat viele Funktionen, die ihn zu einem wichtigen Bestandteil des Photolithographie-Prozesses machen. AT400S verfügt über eine einstellbare Punktgröße, die eine hochauflösende Bildgebung und eine verbesserte Überlagerungsgenauigkeit ermöglicht. Die Stufen- und Wiederholfähigkeit der Maschine ermöglicht Mehrfachbelichtungen auf demselben Wafer, wodurch mehrere unterschiedliche Konstruktionen gleichzeitig hergestellt werden können. ASML AT400S verfügt zudem über eine automatisierte Wafer-Ausrichteinrichtung, die eine genauere Anbringung des Wafers auf dem Stepper ermöglicht, was zu einer präziseren Strukturierung des Substrats führt. Darüber hinaus ist der Stepper in der Lage, eine Hochgeschwindigkeitsbelichtung mit einer Zykluszeit von weniger als 5 Minuten zu erzielen, was dem Bediener eine schnelle Wendezeit bietet. Sicherheitstechnisch ist AT400S mit einem geschlossenen Ausricht- und Belichtungsbereich ausgelegt, der die Sicherheit der Anwender fördert und die Maschine vor Partikelverunreinigungen schützt. Die Maschine verfügt auch über eine Evakuierungsfunktion, die während des Photolithographie-Prozesses entstehende Partikel oder Schadstoffe wegzieht und über eine mechanische Vorrichtung wegwirft. Das Abbildungssystem von ASML AT400S besteht aus zwei Komponenten: einer optischen Linsenkombination und einer „Weißlichtquelle“. Diese Kombination ermöglicht klare Bilder der Muster mit einer Auflösung von bis zu 0,05 Mikrometern und einer numerischen Apertur von 0,75. Die „Weißlichtquelle“ ist eine für AT400S einzigartige leistungsstarke Lichtquelle, die dafür sorgt, dass die Bilder möglichst klar und präzise sind und die Effizienz und Genauigkeit des Lithographieprozesses fördert. ASML AT400S ist auch eines der fortschrittlichsten und zuverlässigsten Photolithographie-Tools zur Verfügung. Die Maschine verfügt über eine eingebaute Messeinheit zur Überwachung und Steuerung des Belichtungsprozesses sowie eine Laserscheibenzentriermaschine, die eine automatisierte Zentrierung des Wafers auf dem Substrat ermöglicht. Mit diesen Fähigkeiten hat AT400S das Potenzial, extrem genaue Muster bereitzustellen, wodurch die Leistung und Präzision des Lithographieprozesses erheblich erhöht wird. Insgesamt ist ASML AT400S Wafer Stepper ein ideales Werkzeug für die Herstellung und Übertragung von Mustern auf Substrate. Seine regulierbare Punktgröße, automatisiertes Oblatenanordnungswerkzeug und Hochgeschwindigkeitsaussetzungsfähigkeiten versorgen den Benutzer mit einer Reihe von Optionen für die unterschiedliche Fotolithographie bearbeitet und macht es einen wichtigen Teil des Steindruckverfahrenprozesses.
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