Gebraucht ASML NXT 1950Ai #9280821 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9280821
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2012
ARF Scanner, 12"
Process: Lithography
CIM: SECS, GEM Inform pro
Hardware configuration: (Fab)
Main system
FOUP
Options:
ART RH Interface
IRL XP
TOP RC 1 & 2
Aux exhaust unit
CYMER Laser
Flex ray
Base liner focus / OL / HOPC
Smash XY
Agile 1
Spotless
Aux load port
Focus improvement package
PEP High dose
Hardware configuration: (Sub fab / Auxiliary units)
CYMER XLR 660 Laser
2012 vintage.
ASML NXT 1950Ai ist ein hochmoderner Wafer-Stepper von ASML, einem der führenden Innovatoren in der Halbleiterherstellungstechnologie. Diese Ausrüstung ist die neueste Ergänzung der ASML NXT-Produktreihe mit unübertroffener Präzision, Vielseitigkeit und Skalierbarkeit für eine Vielzahl von Waferbearbeitungsanforderungen. NXT 1950Ai ist mit fortschrittlicher Lithographie-Projektionsoptik ausgestattet, bestehend aus ultrakurzwelligen, vollständig stabilisierten Laserkomponenten und einem vierfachen Monochromator. Dies gewährleistet eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit für hochkomplexe Projektionsmuster, die für die moderne Wafer-Lithographie unerlässlich sind. Das Projektionsobjektiv ist zudem mit einem neu entwickelten Aberrationskorrektursystem für höchste Abbildungsqualität ausgestattet. Die Maschine verfügt über eine komplexe Bewegungseinheit mit vier Achsen, die es dem Schrittmacher ermöglicht, sich präzise und schnell um den Wafer zu bewegen. Dies ermöglicht eine präzise Ausrichtung des Wafers auf die Projektionsoptik sowie die Einstellung des Fokus der Linse auf die Waferoberfläche. ASML NXT 1950Ai ist in der Lage, Funktionsgrößen bis zu 65 Nanometer aufzulösen, gut innerhalb der Anforderungen der modernsten Halbleiter-Wafer-Produktion. Dies wird durch die hohe Intensität der Laserquelle ermöglicht, die eine schnelle Strahlzufuhr zum Wafer ermöglicht. Es bietet auch verlängerte Belichtungszeiten bei Bedarf für feinere Lithographie-Funktionen. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine automatisierte Ausrichtmaschine, die eine einfache und genaue Ausrichtung des Wafers ermöglicht. Bei der Herstellung von Wafern mit kleineren Abmessungen können NXT- 1950Ai auch für hochauflösende Direct Write (HRDW) -Prozesse eingesetzt werden. Diese Verfahren ermöglichen es, den Wafer direkt darauf zu schreiben, um die lithografischen Kosten zu senken. Schließlich ist ASML NXT 1950Ai auf maximale Betriebszeit und Produktivität ausgelegt. Es ist mit einem Hochleistungskühlwerkzeug und fortschrittlicher Schwingungsisolierung für einen konsistenten und zuverlässigen Betrieb ausgestattet. Darüber hinaus sind alle Komponenten extrem leicht zugänglich und problemlos zu beheben, wodurch minimale Zeit und Kosten für die regelmäßige Wartung aufgewendet werden. Abschließend ist NXT 1950Ai auf dem neuesten Stand der Wafer-Stepper-Technologie und steht als leistungsstarkes Werkzeug für die Halbleiterproduktion. Es bietet höchste Präzision und Genauigkeit für eine breite Palette von Wafer-Lithographieverfahren sowie direkte Schreibfunktionen für die Herstellung von feineren Halbleiterbauelementen. Darüber hinaus sorgt die robuste Bauweise für einen zuverlässigen Betrieb und minimale Wartungskosten.
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