Gebraucht ASML PAS 2500 / 10 #9241066 zu verkaufen

ASML PAS 2500/10 ist ein Wafer-Stepper, der von dem Halbleiterherstellungsunternehmen ASML entworfen und hergestellt wurde. Es ist eine relativ fortschrittliche Maschine und verwendet fortschrittliche Bildgebungs-, Muster- und Bewegungstechnologien, um Photoresist auf Wafern genau zu mustern. Die Maschine verfügt über zwei optische Platzierungssysteme, eines, das die Positionierung des Wafers bestimmt, und eines, das ein Ausrichtfeld für einen mikroskopischen Versatz der Strukturiereinrichtung lokalisiert. Die Strukturierung erfolgt mit einem Projektionssystem, das eine Projektionseinheit aus einem 10-Mikron-Laser mit einem 5-Zoll-Dreiecksspiegel aufweist. Es weist auch Manipulatoren auf, die den Wafer bewegen können, so dass verschiedene Teile des Wafers dem Licht des Lasers ausgesetzt werden können. Die Positionier- und Ausrichtsysteme ermöglichen eine hochgenaue punktgenaue Platzierung des Fotolacks mit weniger als 1 Mikrometer Abweichung. Die Projektionsmaschine verwendet eine lithographische Linse, die eine feine Belichtungsauflösung von 0,5 Mikron bei noch besserer Auflösung mit speziellen Linsen ermöglicht. Das Werkzeug verwendet auch Autofokus, um sicherzustellen, dass das Muster immer in scharfem Fokus ist. PAS 2500/10 ist mit einem Wafer-Spannmechanismus ausgestattet, der aus einem thermischen Spannfutter besteht, das den Wafer in Bewegung hält, und einem Frostfutter, das den Wafer während der Strukturierung hält. Das thermische Spannfutter gibt ASML PAS 2500/10 auch die Möglichkeit, schnell zwischen verschiedenen Belichtungsaufgaben zu wechseln. Der Wafer-Stepper enthält auch eine Waferstufe, die eine stabile und wiederholbare automatisierte Bewegungssteuerung ermöglicht. PAS 2500/10 hat insgesamt sechs Bewegungsachsen, wobei drei der Waferbewegung, eine der Projektionslinse, eine der Retikel und eine der Waferbühne gewidmet sind. Es hat auch einen Fünf-Punkte-Korrelationsmarker, der eine Photomasken-Ausrichtung auf bis zu einem Mikron ermöglicht. ASML PAS 2500/10 verfügt auch über einen fortschrittlichen Dual-Achsen-Manipulator für automatisiertes Photoresist-Backen, der die Genauigkeit des Prozesses erhöht und sicherstellt, dass die Photoresist-Beschichtung gleichmäßig über den Wafer verteilt ist. Es hat auch eine Förderanlage für den einfachen Transfer des Wafers von und zur Maschine. PAS 2500/10 ist ein hochpräziser und präziser Wafer-Stepper. Mit seinen fortschrittlichen Bildgebungs-, Muster- und Bewegungstechnologien bringt es ASML-Know-how in der Halbleiterherstellung auf kleine, mittlere und große Produktionsabläufe. Seine Bewegungsgenauigkeit garantiert enge Toleranzen und sein Photoresist-Backmodell garantiert eine kontrollierte und genaue Belichtung, wodurch hochgenaue Muster kostengünstig erstellt werden können.