Gebraucht ASML PAS 2500 / 30 #9043931 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
ID: 9043931
Wafergröße: 5"
Stepper, 5"
Operator training: No
PEP 2 (Color Graphics): No
PEP 1/3/4: Yes
SECS (I/II): No
SECS Job creator: No
Single reticle SMIF: No
Matching manager: No
Extended file system (MEP): No
Focus enhancement package: Yes
Line scan: Yes
Dose control: No
Reticle error correction: No
Throughput enhancement: Yes
Batch status light: Yes
Reticle carrier identification: No
Extended power supply: No
88 um Error detection: No
RICO Verification: No
Chuck spot detection: No
Wafer track interface: Yes
Wafer tilt monitor: No
Mechanical / Electrical / Options:
Interface: SVG 88
Stamp drive type: TEP
Stamp foot type: Clean
Stamp POU filter: No
Cyber: SSSD
Air shower (OEPS): Yes
P-Chuck: MIII
P-Chuck top flat finder: No
Microscope: Fixed
Lamp HG: 450W
Alignment PCBD : 4022.436.24720
Analog PCBD in VME: Yes
HDD: Solid state
TCU: No
HCU: No
Ionizer: No
Box 1: KAY
Box 2: KAY
Box 3: KAY
Box 4: KAY
Box 5: KAY
Software: 8.1.0
Optical performance:
Uniformity: 2.7
Matching X magnification: 252
Matching Y magnification: 191
UDOF @ 0.7 Micron status Q4-2008: 2.7
Astigmatism noticed: No
Focus stability: No.
ASML PAS 2500/30 ist ein in der Halbleiterindustrie üblicher Waferstepper zur Erzeugung integrierter Schaltungsmuster auf einer Lithographiemaske. Dieses Modell von Wafer Stepper bietet eine optische Feldgröße von 30 x 30 mm und eine Auflösung von 0,39 μ m. Als Schrittmodell verwendet PAS 2500/30 ein Retikel, um das gewünschte Bild auf dem Wafer mit einer hochintensiven UV-Laserlichtquelle zu mustern, die eine gleichmäßige Belichtungswellenlänge von 248 nm liefert. ASML PAS 2500/30 hat eine deutlich verbesserte Overlay-Genauigkeit von +/-7 nm im Vergleich zu anderen Stepper-Modellen, so dass es sehr vielseitig und vorteilhaft in einer Vielzahl von Aufgaben, wie Maskieren, Mustern, Ätzen, Lithographie und mehr. Es bietet auch einen schnellen Wechselkurs von 3 Minuten im Durchschnitt. Ein weiterer Vorteil ist seine Mehrfachwellenlängenfähigkeit, die es der Maschine ermöglicht, große Halbleiterscheiben sowie Substrate mit unterschiedlichen Strukturen und Materialien zu verarbeiten. PAS 2500/30 ist mit erstklassigen Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, die einen sicheren Betrieb und Schutz des Personals ermöglichen, einschließlich des Laserschutzes und der staubdichten Abgasanlage. Darüber hinaus bietet es eine leistungsstarke Leistung mit einer Verarbeitungsgeschwindigkeit von bis zu 18 Wafern pro Stunde, was die Produktivität und Kosteneffizienz deutlich erhöht. Der Wafer-Stepper wird durch integrierte Diagnose- und Feedbacksysteme unterstützt, die verschiedene Aspekte wie Produktionsfortschritt, Temperatur, Feuchtigkeit und Vibrationsstufen verfolgen, um potenzielle Probleme oder Fehler in der Produktion schnell zu erkennen und schnelle und effiziente Reaktionszeiten zu erzielen. Zusammenfassend ist ASML PAS 2500/30 ein anspruchsvoller Wafer-Stepper, der speziell für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde und sich für eine effiziente Verarbeitung großer Substrate und Materialien mit verschiedenen Sicherheits- und Wartungsmerkmalen eignet.
Es liegen noch keine Bewertungen vor