Gebraucht ASML PAS 2500 / 30 #9234701 zu verkaufen

ASML PAS 2500/30 ist ein hochmoderner Wafer-Stepper, der speziell für die Anforderungen der modernen Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Diese Stepper-Serie bietet flexible Lithographieoptionen für Maskenlose Lithographie, Optische Mustererkennung und Musterüberlagerung. PAS 2500/30 basiert auf branchenführenden Technologien und wurde für hohe Erträge und niedrige Betriebskosten entwickelt. ASML PAS 2500/30 erzielt mit seiner proprietären Quad-VFD HSIS-Optik und seinem einzigartigen Veeco-Beleuchtungsdesign eine hervorragende Bildgebungsleistung. Dieser Stepper bietet mit seinem hochleistungsfähigen Infrarotlaser eine überlegene Bildleistung und erweiterte Fokustiefe für optimierte Gleichmäßigkeit und Auflösung. Die Quad-VFD HSIS-Optik ermöglicht zudem eine hocheffiziente, hochgenaue Designoptimierung und unterstützt erweiterte Mustersuchanwendungen. Das Veeco Beleuchtungsdesign gewährleistet eine ausgezeichnete bildgebende Effizienz, minimiert Musterinterferenzen und sorgt für schnelle Verarbeitungsgeschwindigkeiten. PAS 2500/30 ermöglicht auch Pattern Overlay-Funktionen, die eine präzise Messung und Ausrichtung mehrerer Schichten für die fortschrittliche Lithographie-Produktion ermöglichen. Die fortschrittliche Hard- und Software dieses Steppers sorgt für eine verbesserte Wiederholbarkeit und Genauigkeit in komplexen Lithographieanwendungen. Es bietet auch Ausrichtungsgenauigkeit von bis zu +/- 1um entlang der x- und y-Achse und bis zu +/- 0.5um entlang der z-Achse auf einem 6-Zoll-Wafer. Für die automatisierte Lithographie-Produktion bietet ASML PAS 2500/30 Maskenlose Lithographie und optische Mustererkennung. Maskenlose Lithographie ermöglicht die automatische Erzeugung von hochwertigen Wafermustern und komplexen Formen ohne den Einsatz von Masken oder Meistern und senkt so die Produktionskosten insgesamt. Die integrierte optische Mustererkennung bietet eine hochgenaue Mustererkennung und automatische Wafernähte für schnelle Wendezeiten. PAS 2500/30 ist eine ideale Wahl für moderne Hightech-Lithographieanwendungen, die Präzisionsgenauigkeit erfordern. Es bietet fortschrittliche Bildgebungsleistung, präzise Overlay-Funktionen und modernste maskenlose Lithographie und OPR-Funktionen für eine verbesserte Waferproduktion.