Gebraucht ASML PAS 2500 / 40 #138919 zu verkaufen

ASML PAS 2500/40 ist ein High-End-Wafer-Stepper für hochpräzise Lithographieanwendungen. Das Gerät ist in der Lage, Photomasken für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen (IC) mit einer genauen minimalen Linienbreite von 0,35 Mikrometern zu erzeugen. Es bietet auch einen hohen Durchsatz mit einer maximalen Feldgröße von bis zu 254 mm. Das System wird von einer zweiachsigen mechanischen Stufe angetrieben, die eine hochpräzise Bewegung des 16 „- oder 24“ -Wafers ermöglicht. Es verfügt über eine patentierte Fokus-Steuereinheit, die genau einen einheitlichen Fokus und Feldgröße über den gesamten Betrachtungsbereich beibehält. Die Maschine verfügt auch über ein In-Vakuum-Projektionswerkzeug, was zu größeren Auflösungen und reduzierten Bildaberrationen führt. Licht für die Anlage wird mit einer Kryptonfluorid (KrF) Excimer-Laserquelle erzeugt. Die Laserquelle kann eine Wellenlänge von 248 nm mit einer Pulswiederholfrequenz von bis zu 60 Hz und einer Energieausgabe von bis zu 100mJ/pulse erzeugen. Dadurch kann das Modell auch kleinste Muster präzise und präzise freilegen, ohne sie zu beschädigen. Das Gerät bietet auch niedrige Betriebstemperatur und hohe thermische Stabilität, wie für empfindliche Anwendungen konzipiert. Seine In-Vakuum-Projektionskammer sorgt für hohe Temperaturstabilität und hält die Wafertemperatur innerhalb von ± 0,3 ° C. Zur Benutzersteuerung und Kalibrierung bietet das System eine webbasierte Computerbenutzeroberfläche. Auf diese Weise können Benutzer einfach Designdaten eingeben, Musterlayouts anpassen, Einstellungen anpassen, Daten herunterladen und den Status der Einheit überprüfen. Es umfasst auch mehrere Remotebedienungsfunktionen wie Ansichtskontrolle, Wafer-Zuordnung und Spotting-Steuerung. Abschließend ist ASML PAS 2500/40 in der Lage, ICs mit einer minimalen Linienbreite von 0,35 µm, einer maximalen Feldgröße von 254 mm und einer In-Vakuum-Projektionsmaschine zu produzieren, die eine hohe Temperaturstabilität gewährleistet. Der KrF Excimerlaser bietet eine Wellenlänge von 248 nm und eine hohe Energieausbeute von bis zu 100mJ/pulse und sorgt für hochpräzise Belichtungen, ohne die Muster zu beschädigen. Das Tool bietet auch eine Web-basierte Computer-Benutzeroberfläche für einfache Bedienung und Fernsteuerung von mehreren Parametern. PAS 2500/40 ist ideal für hochpräzise Lithographieanwendungen.