Gebraucht ASML PAS 2500 / 40 #9234700 zu verkaufen

ASML PAS 2500/40 ist ein Waferstepper, mit dem dünne Schichten aus Photolack präzise auf eine Halbleiterscheibe gemustert werden. Die Maschine ist in der Lage, eine Genauigkeit von +/- 15nm und eine seitliche Auflösung von 5nm zu erreichen, was sie ideal für modernste Lithographieanwendungen macht. ASML PAS 2500/40 verwendet eine hochautomatisierte proprietäre Beleuchtungsausrüstung und fortschrittliche Optik, um seine Muster zu erzeugen. Das System verfügt über einen Leuchtkörper im Projektionsstil, der eine breitbandige Hochleistungslichtquelle in Kombination mit einem High-NA-Objektiv verwendet, um einen kohärenten Lichtstrahl genau auf den Wafer zu liefern. Der Strahl wird durch einen Strahlteiler und eine Optik gerichtet, um den Wafer genau zu strukturieren. Die Maschine verfügt auch über ASML hocheffektiven Advancedzoom-Modus, der das Beleuchtungsfeld über den Belichtungsbereich optimiert. Dadurch wird eine gleichmäßige und für die Photolackschicht des Wafers geeignete Lichtbelichtung gewährleistet. Es hilft auch, Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Produktivität zu verbessern, da die Gleichmäßigkeit der Bilder unabhängig von der Substratgröße maximiert wird. Um genaue Lithographieergebnisse zu gewährleisten, verfügt PAS 2500/40 auch über erweiterte Ausrichtungs- und Kalibrierungsfunktionen. Das Gerät nutzt fortschrittliche Wafer-Ausrichtung, Schuss-zu-Schuss-Registrierung und eine digitale Belichtungsprozess-Steuerung Maschine. Gemeinsam sollen diese Merkmale sicherstellen, dass jedes Muster präzise erstellt wird und Wafer problemlos von einer Belichtungsstation zur anderen übertragen werden können. Das Werkzeug bietet die Flexibilität, eine Vielzahl von Substraten mit einer Reihe von Belichtungsbedingungen und Belichtungsauflösung zu belichten. Darüber hinaus hat PAS 2500/40 die Fähigkeit, schnell zwischen Belichtungen und Funktionsgrößen zu wechseln, was eine effiziente Verarbeitung und eine schnelle Prozessabwicklung gewährleistet. ASML PAS 2500/40 ist ebenfalls in der Lage, die Expositionsdosis zu kontrollieren, was sicherstellt, dass die dem Wafer zugeführte Expositionsdosis angemessen und konsistent ist. Dies erhöht die Genauigkeit des Belichtungsprozesses, reduziert den Nacharbeitsbedarf und verbessert die Werkzeugverfügbarkeit. Darüber hinaus umfasst die Maschine eine automatisierte Datenerfassung und sichere Datenspeicherung, so dass Benutzer auf Daten über Wafer-Exposition und Integrität zugreifen können. Zusammenfassend ist ASML PAS 2500/40 ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der Präzision und Genauigkeit kombiniert, um eine hochwertige Lithographielösung zu liefern. Dank seiner Eigenschaften eignet es sich besonders für Fertigungsaufgaben in der Halbleiterindustrie und anderen Branchen, die eine präzise Belichtung und Ausrichtung erfordern.