Gebraucht ASML PAS 2500 / 40 #9245669 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

Hersteller
ASML
Modell
PAS 2500 / 40
ID: 9245669
Stepper, parts system Missing parts: REMA Unit E-Chuck (3) Pneumatic units Stamp motor Dipped motor HP Laser Boards.
ASML PAS 2500/40 ist eine fortschrittliche Wafer-Stepper-Ausrüstung, die für Lithographieverfahren wie Photomaskenerzeugung für die Mikrochip- und Waferherstellung entwickelt wurde. Das Gerät ist ein Stufen- und Wiederholungssystem, das eine Nanometer-Belichtungsgenauigkeit und eine gleichmäßige Belichtungsabdeckung bietet. Das Gerät ist für schnelle und genaue Photomasken-Herstellungs- und Lithographieverfahren ausgelegt. Es kann eine maximale Substratgröße von 355mm x 455mm handhaben, mit der aktuellen maximalen Overlay-Genauigkeit von 0.5um. ASML PAS 2500/40 ist mit einem Ammoniakmonitor zur kontinuierlichen Echtzeitüberwachung der Prozessgasbedingungen zur optimierten Waferproduktion ausgestattet. Die Plattform umfasst eine Reihe fortschrittlicher Funktionen wie einen Hochgeschwindigkeits-Servoaktor, eine 12-Zoll-Nanometer-Genauigkeitsstufe und eine hochmoderne Beleuchtungsmaschine. Das Beleuchtungswerkzeug besteht aus einem auf einer hochpräzisen linearen Stufe montierten Halbleiterlaser und kann für gleichmäßige, hochauflösende und kantenscharfe Bilder präzise eingestellt werden. PAS 2500/40 wurde entwickelt, um mit mehreren Arten von Photomasken und Wafern zu arbeiten, einschließlich Standard-6-Zoll und 8-Zoll-Wafern, 2D- und 3D-Wafern mit bis zu 5-Schichten und dünnen Silizium-Wafern. Das Gerät kann in Kombination mit einer Vielzahl von Eingangs-, Prozess- und Ausgangsoptiken eingesetzt werden, darunter von ArF, KrF und I-Line. PAS 2500/40 verfügt über eine Reihe anspruchsvoller Robotik- und Automatisierungsfunktionen, die zur Verbesserung der Prozessausbeute und zur Reduzierung von Umstellungen und Stillstandszeiten beitragen. Dazu gehören automatische Kassettenentladung, Positionierung und Beladung sowie automatische Verschlusskontrolle. Eine prozessspezifische Softwaresteuerung steht ebenfalls zur Verfügung. ASML PAS 2500/40 ist in der Lage, mehrere Wafer und Photomasken in Serienumgebungen zu verarbeiten. Durch die Bereitstellung einer robusten und zuverlässigen Lithographie-Plattform trägt das Asset dazu bei, höchste Wafer-Qualität und -Ertrag für eine Vielzahl von Wafer-Herstellungs- und Lithographieanwendungen zu gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor