Gebraucht ASML PAS 2500 / 40 #9275403 zu verkaufen

ASML PAS 2500/40 ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper für Photolithographie und andere Musteranwendungen. Der Stepper ist mit einer 58-Zoll-Auflösungslinse ausgestattet, die eine Vielzahl von Funktionen mit einer Breite von 0,5 Mikrometern erzeugen kann. Es ist in der Lage, Merkmale auf Oberflächen bis zu 16 "im Durchmesser zu produzieren und kann mit Substraten wie Halbleiterscheiben, Flachbildschirmen und MEMS/NEMS-Bauelementen beladen werden. ASML PAS 2500/40 verwendet mehrere fortschrittliche Technologien, um sicherzustellen, dass der Photolithographie-Prozess präzise und effizient ist. Es verfügt über Dynamic Non-Linear Dispersive Aberration Correction (DCDAC), ein einzigartiges optisches Verfahren zur automatischen Bewertung und Korrektur von Verzerrungen im projizierten Bild. PAS 2500/40 ist auch der erste Schrittmacher, der eine pulsweitenmodulierte (PWM) Beleuchtung enthält, was zu einer höheren Genauigkeit und Gleichmäßigkeit des Lichts führt. Der Stepper verwendet außerdem ein patentiertes Wellenlängensteuerungssystem ImprintPower, um eine konsistente Belichtungsdosis zu gewährleisten. PAS 2500/40 bietet ein kompaktes und effizientes Design, das einfach zu bedienen ist. Der Stepper hat einen geringen Platzbedarf und kann einfach von einem einzelnen Benutzer bedient werden. Der Stepper verfügt außerdem über eine automatisierte Ausrichtungsfunktion, die eine präzise Überlagerungsausrichtung zwischen Schichten ermöglicht und die Platzierungsgenauigkeit der Kanten verbessert. Die Vielseitigkeit der Ausrichtfunktion ermöglicht es dem Benutzer auch, verschiedene Einstellungen durchzuführen, wie Fokus, Drehung, Position und Vergrößerung. ASML PAS 2500/40 verfügt auch über eine fortschrittliche selbstausrichtende Maskenphase. Diese fortschrittliche Technologie gewährleistet eine präzise Maskenausrichtung von bis zu 0,5 Mikrometern und reduziert gleichzeitig die Fehlermöglichkeit durch die Fehlstellung der Maske. Schließlich ist ASML PAS 2500/40 ein fortschrittlicher und zuverlässiger Stepper zur Herstellung hochpräziser Photolithographiemuster. Der Stepper wird einfach von einem einzelnen Benutzer bedient und verfügt über eine Vielzahl fortschrittlicher Technologien, um sicherzustellen, dass jeder Musterprozess so effizient und genau wie möglich abläuft.