Gebraucht ASML PAS 2500 / 40 #9285750 zu verkaufen

ASML PAS 2500 / 40 ist eine step-scan binäre 193-Nanometer-Fotolithographiemaschine, die weit in der Herstellung von Oblaten verwendet ist, die in der Produktion von Chips und anderen elektronischen Bestandteilen verwendet sind. ASML PAS 2500/40 ist in der Lage, Muster auf Wafern mit Größen von 100mm bis 200mm mit einer maximalen Düsengröße von 8 „x 10“ herzustellen. PAS 2500/40 verwendet eine bewegliche optische Ausrüstung mit einem Paar sextuple Linsen, die ein veränderbares optisches System ermöglichen. Das Objektiv bietet hochauflösende Bildgebung und konstante optische Leistung, wodurch das Gerät für die Hochgeschwindigkeitsproduktion geeignet ist. Der Einsatz von Liquid Developers ermöglicht es der Maschine, direkt schreibende Expositionen einer Reihe von Belichtungsdosen mit sehr geringer Energieexposition zu erstellen. PAS 2500/40 verwendet eine Kombination aus einer Röntgenquelle, einer Laserquelle und einem schrittgesteuerten Wafer-Futter. Die Röntgenquelle wird verwendet, um den Wafer zu beleuchten, während die Laserquelle verwendet wird, um die Belichtungsdosis auf den Wafer zu richten. Das schrittgesteuerte Wafer-Spannfutter ermöglicht eine Bewegung des Wafers während der Belichtung, so dass einzelne Schritte des Belichtungsprozesses genau durchgeführt werden können. ASML PAS 2500/40 verfügt auch über mehrere fortschrittliche Technologien wie AutoFocus und Autoalign, die eine automatische Bildgebung und Belichtung mit sehr hoher Genauigkeit und Gleichmäßigkeit ermöglichen. Das Tool verfügt außerdem über ein Scan-Focal Plane Slitting Asset, mit dem eine Reihe von Wafer-Belichtungsschritten gleichzeitig durchgeführt werden können. Darüber hinaus verfügt ASML PAS 2500/40 über einen softwaregesteuerten Scanprozess, der die Anzahl der Belichtungen für eine bestimmte Schicht minimiert. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine breite Palette von messtechnischen Werkzeugen, die eine optimale Prozesssteuerung und -optimierung ermöglichen. PAS 2500/40 ist ein extrem zuverlässiger und vielseitiger Wafer-Stepper und in der Lage, hohe Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Robustheit in den anspruchsvollsten Photolithographie- und Testanwendungen zu liefern.