Gebraucht ASML PAS 5000 / 50 #293586476 zu verkaufen

ASML PAS 5000/50 ist eine führende High-End-Wafer-Stepper-Ausrüstung, die in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Als eines der fortschrittlichsten Systeme, die derzeit verfügbar sind, verfügt es über eine breite Palette modernster Funktionen wie programmierbare Optik und erweiterte Autofokus-Funktionen. Das Schrittsystem besteht aus zwei hochpräzisen Stufen und einem einzigen Hochleistungsobjektiv. Die Stufen haben eine kombinierte Höhengenauigkeit von nur 0,8 Mikrometern und sind somit ideal für Anwendungen, die höchste Präzision erfordern. Eine der Stufen kann bis zu 22 Grad schwingen, was eine weitere Manipulation und genauere Positionierung ermöglicht. Neben seinen hochpräzisen Stufen und Objektiven bietet ASML PAS 5000/50 auch eine Vielzahl fortschrittlicher Funktionen. Für den Anfang ist es mit einer programmierbaren Optikeinheit ausgestattet, die es dem Anwender ermöglicht, kundenspezifische Profile für Laserbelichtung und Fokus einzurichten. Dies ermöglicht eine breite Palette von Belichtungspegel und Einstellungen für jeden Wafer, so dass die Maschine ideal für kleine Wafer und komplexe Musterung. Es verfügt auch über fortschrittliche Autofokus-Technologie, so dass es einfach zu bedienen und helfen, Fehler durch die falsche Ausrichtung der Linse verursacht zu reduzieren. Das Werkzeug wird auch mit einer Reihe von kundenspezifischen Optionen geliefert, die auf jeden Produktionsanforderungen zugeschnitten werden können. Zum Beispiel kann das Asset mit einem H-Spiegel konfiguriert werden, was eine Split-Field-Bildgebung und eine verbesserte Fokussteuerung ermöglicht. Darüber hinaus werden auch automatisierte Nähte angeboten, wodurch es einfach ist, mehrere Wafer gleichzeitig zu handhaben. Insgesamt ist PAS 5000/50 ein hochmodernes Wafer-Stepper-Modell, das höchste Präzision und automatisierte Steuerung bietet. Mit seiner fortschrittlichen Optikausrüstung und hochpräzisen Stufen ist das System eine ideale Wahl für jede Mikrofabrikationsanwendung mit engen Fokustoleranzen und präzisen Musteranforderungen.