Gebraucht ASML PAS 5000 / 50 #293620128 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 293620128
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2005
Stepper, 6"
Chiller
Light source wavelength: 365 nm
Numerical aperture: 0.48
Resolution: 0.5 μm
Depth of focus: 1.2 μm
Maximum exposure area (X / Y): 16 mm / 20 mm
Exposure intensity: 553 mW/cm²
Uniformity of light intensity: 2.45%
Transfer rate: ≥120 mm/s
CD Uniformity (Max-Min): ≤0.10 µm
Stage flatness: -0.1 μm/cm
Engraving precision (X / Y): 88 nm / 62 nm
Engraving method
Mask plate size: 5009
Mask switching time: 32s (with alignment action)
Mask plate cassette: 2-SMIF box
(4) Wafer stages
Exposure platform
Electric cabinet
Transfer unit
PC
Power supply
Projection and expose lens
Focus system
Electronics cabinet:
Lamp power
VME
MIOS1
MIOS2
VRS
HP Rack
Control systems:
Valve
Sensor
Reducer
Wafer handling:
Send unit
Receive unit
per-alignment
levelling device
Dipod
Discharge
Reticle handling:
Library
Per-alignment
Barcode
UV Lighting system:
Lamp housing
Mirror
Lens
Filter
Shutter
Stage movement:
Stator
Linear motor
Laser interferometer and source
Alignment system
2005 vintage.
ASML PAS 5000/50 ist ein hochpräziser, automatisierter Wafer-Stepper, der für die fortschrittlichen Lithographieverfahren in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Seine sensible Handhabung und hochauflösende Abbildung des Elektroden-Gravierprozesses erzielt extrem präzise mikroskopische Bilder auf dem Silizium-Wafer für komplexe 3D-Strukturen. ASML PAS 5000/50 verfügt über eine 4k moderne bildgebende Ausrüstung, die eine präzise Auflösung von 12 Nanometern ermöglicht. Die optische Positionierungstechnologie an Bord ermittelt die Position des Wafers mit Nanometergenauigkeit und ermöglicht jedes Mal genaue Ergebnisse. Es hat auch ein integriertes „Echtzeit-Merkmal“, das Messungen von Strukturen in unterschiedlichen Tiefen ermöglicht, wodurch die Anzahl der Iterationen während kritischer Stufen des Lithographieprozesses reduziert wird. PAS 5000/50 hat auch eine hohe Verarbeitungsgeschwindigkeit für einen effizienten Betrieb. Der fortschrittliche Algorithmus kann die Verarbeitungszeiten um bis zu 30% verkürzen und den gesamten Lithographieprozess deutlich beschleunigen. Gleichzeitig soll eine konstante Genauigkeit unabhängig von der Laufzeit gewährleistet werden. Das PAS 5000/50 ist extrem stabil, und sein Luftschwingungsunterdrückungssystem eliminiert Luftströmungsgeräusche. Darüber hinaus ist seine Wafer-Transporteinheit zur schonenden Handhabung von Wafern ausgelegt, wodurch eine Beanspruchung empfindlicher Bauteile innerhalb des Wafers vermieden wird. Schließlich ist das bedienerfreundliche Steuerprogramm der Maschine so konzipiert, dass Bediener das Gerät mit minimalem Aufwand bequem steuern können. Abschließend ist ASML PAS 5000/50 ein hocheffizienter, automatisierter Wafer-Stepper mit erweiterten Bildgebungsfunktionen und präziser Auflösung. Die hohe Verarbeitungsgeschwindigkeit und das stabile Design ermöglichen schnelle, genaue Ergebnisse bei minimalem Aufwand. Mit einer extrem präzisen Lithographie-Technologie ist dieses Gerät ideal für die moderne Halbleiterproduktion.
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