Gebraucht ASML PAS 5000 / 50 #9282384 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9282384
Wafergröße: 3"-6"
Stepper, 3"-6"
Reticle, 5"
PEP 2 (Color graphics)
PEP 1/3/4
Chuckspot detection
Wafer Tilt Monitor (WTM)
Alignment Focus Offset (AFO)
Stage Grid Verification (SGC)
Multiple Image per Layer (MIL)
Flexible Mark Position (FMP)
Pre-alignment microscope position, 3".
ASML PAS 5000/50 ist ein Wafer-Stepper, der eine präzise lithographische Strukturierung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente ermöglicht. Es bietet mehrere Funktionen, die es ermöglichen, qualitativ hochwertige, hochauflösende Muster mit Durchsatzraten zu erstellen, die oft schneller sind als konkurrierende Stepper auf dem Markt. ASML PAS 5000/50 hat ein patentiertes optisches Design, das eine Kombination aus Fünf-Mikron-Schrittauflösung und telezentrischer Optik verwendet. Diese Konstruktion ermöglicht eine sehr präzise Lithographie mit sehr geringer Prozessvariation aufgrund konsistenter Schrittgenauigkeit. Der Stepper hat auch eine 1000 Watt Xenon-Lampe, die einstellbar ist, um die Energie des Belichtungsstrahls zu variieren, um feine Details oder einen höheren Durchsatz zu erzeugen. Dies hilft, die Belichtungszeit für hochauflösende Prozesse zu reduzieren, was den Durchsatz erhöht. Der Stepper verwendet eine kompakte Formatstufe, mit der die Form des Belichtungsbildes verändert werden kann. Dies ermöglicht eine höhere Designflexibilität und kürzere Belichtungszeiten. Es hilft auch, wiederholbare Genauigkeit und Hochleistungsexpositionen zu gewährleisten. PAS 5000/50 verfügt über ein automatisiertes Ausrichtungssystem mit zwei Videoerkennungssystemen. Dies ermöglicht eine schnelle, genaue Ausrichtung kleiner Belichtungsbereiche, was schnelle Belichtungszeiten gewährleistet und Ausschusszeiten reduziert. Der Stepper verfügt zudem über ein hochgenaues Positioniersystem, das auch in Produktionsumgebungen mit hohem Durchsatz zusätzliche Genauigkeit bietet. Dies hilft, Belichtungs- und Bewegungszeiten zu reduzieren, was einen höheren Durchsatz ermöglicht. Das Gerät bietet auch eine große Puffergröße, die einen hohen Belichtungsgrad gewährleistet, ohne die Zykluszeiten erhöhen zu müssen. Die Puffergröße ist ebenfalls einstellbar, was je nach gewünschtem Ergebnis Flexibilität und Produktivität ermöglicht. Schließlich verfügt PAS 5000/50 über insgesamt fünf unabhängig voneinander gesteuerte Prozessstufen. Dieses hochkonfigurierbare System ermöglicht einen hohen Durchsatz und eine hohe Genauigkeit bei komplexen mehrstufigen Prozessen. Zusammenfassend bietet der ASML PAS 5000/50 Wafer Stepper eine fortschrittliche Optik- und Belichtungstechnologie, die Anwendern das Potenzial für höhere Auflösung, mehr Geschwindigkeit und mehr Flexibilität bei der Erstellung von Mustern bietet. Damit ist ASML PAS 5000/50 ein Top-of-the-Line-Wafer-Stepper für die Herstellung von Halbleitern.
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