Gebraucht ASML PAS 5000 / 55 #9068441 zu verkaufen

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Hersteller
ASML
Modell
PAS 5000 / 55
ID: 9068441
i-Line Stepper Software version: 3.1.0 Reticle size: 5" Lens Data: Wave length: 365nm (i-line) NA: 0.48 Resolution: 0.50µm Field Size Diameter: 21.2mm Max X: 15mm Max Y: 19mm Usable Depth of focus: ≥1.2µm at specified resolution of 0.50µm with 10% CD Control and > 83° wall angle Distortion: 100nm Currently stored in a cleanroom.
ASML PAS 5000/55 Wafer Stepper ist eine fortschrittliche Lithographie-Ausrüstung, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es ist ein Präzisionsbildgerät, das in der Lage ist, Muster auf Halbleiterscheiben mit Subpixelgenauigkeit zu erzeugen. Die Maschine verfügt über das proprietäre Synchroskop-Ausrichtungssystem, eine einzigartige Technologie, die die Ausrichtung mehrerer Bilder kombiniert, die von einer CCD-Kamera und einem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen wurden, wodurch eine präzise Überlagerung der mehreren Bilder ermöglicht wird. PAS 5000/55 verwendet eine hohe NA (numerische Apertur) Projektionseinheit, die es der Maschine ermöglicht, Muster mit kleinen Funktionsgrößen zu produzieren. Darüber hinaus verfügt das Tool über ein automatisiertes Asset zur Verwaltung und Optimierung des Belichtungsprozesses und gewährleistet eine präzise Bildgebung vom Entwurf bis zur Produktion. Dieses Modell ist auch in der Lage, Belichtungen zu überlappen, was schnellere Produktionszeiten und eine effizientere Herstellung von Halbleiterbauelementen ermöglicht. ASML PAS 5000/55 enthält auch eine Vielzahl fortschrittlicher Lithographie-Funktionen, einschließlich Waferausrichtung und Bildauswahl. Die Maschine kann so konfiguriert werden, dass sie entweder Dunkelfeldbeleuchtung oder helle Feldbeleuchtung verwendet, und ist mit einer ganzen Reihe von Linsen und Blendenmasken ausgestattet. Das Gerät kann programmiert werden, um die Ausrichtung des Wafers durchzuführen, und ein Laser-Autofokus-System ist enthalten, um eine genaue und präzise Bildgebung zu gewährleisten. Dieses Gerät kann mehrere Wafergrößen von 2 Zoll bis 300 mm handhaben und sowohl in der ein- als auch doppelseitigen Verarbeitung verwendet werden. Die Maschine verfügt auch über eine eingebaute Überwachungsmaschine, die Inspektions- und Messtechnikfunktionen umfasst, und ein automatisiertes Markierungswerkzeug, das die Ausrichtung zwischen dem Substrat und der Maske gewährleistet. Eine Inline-Inspektion ist ebenfalls im Paket enthalten, was eine schnelle Waferkorrektur und Mustererkennung ermöglicht. PAS 5000/55 Wafer Stepper ist ein robustes, zuverlässiges und fortschrittliches Lithographiemodell für die Halbleiterherstellung. Es liefert präzise und wiederholbare Lithographieergebnisse für verschiedene Gerätegrößen und ist auf hohe Produktivität und verbesserte Erträge ausgelegt. Diese Ausrüstung eignet sich für kleine und große Produktionsläufe, vom Prototyping bis zur Großserienfertigung.
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