Gebraucht ASML PAS 5000 / 55 #9245465 zu verkaufen

ASML PAS 5000/55 ist ein modernes Wafer-Schrittgerät zur Automatisierung der Produktion integrierter Schaltungen. Das System verwendet ein Rasterelektronenmikroskop, um Funktionen auf dem Wafer vor und nach der Belichtung eines Fotoresistfilms zu überprüfen und zu lokalisieren. Es ermöglicht eine präzise Positionsausrichtung von Schrittkomponenten und kann eine gleichzeitige Prüfung von Photomasken durchführen. PAS 5000/55 besteht aus einem Großrechner und mehreren Software-, Hardware- und optischen Komponenten. Das Gerät enthält eine Maskenausrichtungstabelle, die eine genaue Positionierung der Fotomaske relativ zum Wafer für eine genaue Merkmalsbildgebung ermöglicht. Ein Paar Belichtungsköpfe mit Laserinterferometern ist ebenfalls enthalten, um die optischen Komponenten auszurichten und eine optimale Ausrichtung während der Belichtung zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt ASML PAS 5000/55 über ein Rasterelektronenmikroskop (SEM) mit einer Stufe zur Inspektion und Positionierung von Wafern vor und nach dem Prozess. Die Software-Suite der Maschine wurde entwickelt, um alle Komponenten zu integrieren und kann unabhängig vom Mainframe-Computer arbeiten. PAS 5000/55 ist mit einem fortgeschrittenen Luftlagerwerkzeug ausgestattet und so konzipiert, dass es in einer atmosphärischen oder Vakuumumgebung betrieben werden kann. Die Anlage verwendet ein spezialisiertes optisches Modell, um die verschiedenen optischen Komponenten zu lenken und zu steuern, um die Genauigkeit der Ausrichtung und Bildgebung zu gewährleisten. Die Fotomaske wird auf einen speziellen Adapter aufgesetzt, der mit den beiden Hauptbelichtungsköpfen verbunden ist. Ein Paar Schwingungsisolationskomponenten ist ebenfalls in der Ausrüstung enthalten, was eine maximale Bildstabilität ermöglicht. ASML PAS 5000/55 ist zu einer Vielzahl von Photomasken- und Wafergrößen in der Lage und kann die Produktion von bis zu 300mm Wafern aufnehmen. Integrierte Sensoren innerhalb des Werkzeugs ermöglichen eine Echtzeit-Anpassung und Prozessüberwachung, so dass sie die Prozessstabilität zwischen Wafern für konsistente Leistung genau verbessern können. Durch die Verwendung von PAS 5000/55 sind Anwender in der Lage, die Bildgebung von integrierten Schaltungen mit hoher Präzision zu erreichen. Das System ist schnell und effizient, und seine Software- und Hardwarekomponenten sind darauf ausgelegt, einen zuverlässigen Betrieb der Einheit zu gewährleisten und sicherzustellen, dass der Prozess konsistente, genaue Ergebnisse liefert.