Gebraucht ASML PAS 5000 / 55 #9300741 zu verkaufen

ASML PAS 5000/55 ist ein hochpräziser Wafer-Stepper, der zur Herstellung mikroelektronischer Schaltungen auf Waferbasis verwendet wird. Diese Maschine ist in der Lage, Substrate mit hoher Genauigkeit in einer Vielzahl von Mikroherstellungstechnologien zu maskieren. Es verfügt über eine fortschrittliche Lithographie-Ausrüstung, die extremes UV (EUV) -Licht aus einer Plasmaentladung verwendet, um gemustertes Licht auf einem Wafer zu belichten. PAS 5000/55 bietet eine ausgezeichnete Musterauflösung mit wenig bis keine Verzerrung, so dass es in der Lage, sehr kleine Strukturen mit hohen Erträgen zu produzieren. Das Lithographiesystem projiziert das EUV-Licht mittels Spiegeloptik auf ein im Stepper montiertes Retikel. Die Maschine scannt das Retikel bei Frequenzen bis 30 kHz, um ein exaktes Muster über dem Wafer zu erzeugen. Die optischen Komponenten der Einheit haben eine extrem hohe numerische Apertur von 0,9, um die höchste Musterauflösung zu gewährleisten. Die Prozessorsteuerung akzeptiert Eingaben von außen wie Positionsdaten aus einem Vorausrichter, Geschwindigkeits- und Beschleunigungsdaten und Absetzdaten wie die Anzahl der Wiederholungen pro Schuss, Breite der Musterlinien und Röntgeneinstellungen. Der Stepper ist mit Software programmiert, um die Laserleistung, die Dosisrate und die Anzahl der Schüsse zu steuern. Der Laser ist in der Lage, eine Pulswiederholrate von bis zu 4 MHz und eine Feldgröße von bis zu 200 mm Durchmesser zu erreichen. Der Stepper ist auch in der Lage, hohe Belichtungsgeschwindigkeiten von bis zu 20 m/sec, so dass höhere Durchsätze. ASML PAS 5000/55 verfügt über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen und Sensoren, um die Sicherheit des Bedieners und der Maschine zu gewährleisten. Die Maschine ist in der Lage, unter verschiedenen Umgebungsbedingungen zu arbeiten. Dazu gehören Funktionen wie Temperatur, Luftfeuchtigkeit und Vibrationssensoren, um Betreiber auf mögliche Kontaminationen aufmerksam zu machen. PAS 5000/55 ist eine ausgezeichnete Wahl für die Chipherstellung. Es ist zuverlässig, präzise und in der Lage, komplexe Strukturen effizient zu produzieren. Darüber hinaus ist es kostengünstig und bietet eine ausgezeichnete Musterauflösung bei minimaler Verzerrung, was höhere Ausbeuten bei weniger Nachbearbeitungszyklen ermöglicht.