Gebraucht ASML PAS 5500 / 100 #293817876 zu verkaufen

ASML PAS 5500/100 ist ein in der Halbleiterindustrie verwendeter Waferstepper. Es handelt sich um eine hochgenaue Maschine, mit der gemusterte Schichten auf die Oberfläche eines Siliziumwafers übertragen werden. Dies hilft, die Größe der Komponenten zu reduzieren, was eine höhere Dichte und Miniaturisierung integrierter Schaltungen ermöglicht. ASML PAS 5500/100 ist eine fortschrittliche Lithographie-Ausrüstung mit einem optischen Projektionsbelichtungswerkzeug. Es ist in der Lage, ein fokussiertes Muster auf die Oberfläche eines Siliziumwafers mit nahezu atomarer Auflösung zu projizieren. Dies geschieht mit mehreren Rahmen, jeder mit einem eigenen Muster, um Probleme durch Belichtungsbewegung zu vermeiden. Das Substrat wird in den beweglichen Substrattisch gelegt und das Lithographiesystem auf das Substrat fokussiert. Die Einheit ist mit einer Halbleiterbelichtungsplattform oder Maskenplatte ausgestattet. Die Maskenplatte enthält eine Reihe von Musterstrukturen, die das zu projizierende Muster definieren. Jeder einzelne Rahmen auf der Maskenplatte hat ein eigenes Muster und wird verwendet, um ein größeres Belichtungsmuster auf dem Substrat zu erzeugen. PAS 5500/100 ist auch mit einer Lichtquelle für die Projektion ausgestattet. Dies ist typischerweise eine Laserlichtquelle wie eine Lichtbogenlampe. Die Lichtquelle ist so programmiert, daß sie einen genau fokussierten Lichtstrahl erzeugt, der dann auf die Maskenplatten-Belichtungsmuster projiziert wird. Die Maschine ist auch mit einem Belichtungsregler ausgestattet. Dieser Regler dient zur Einstellung der Belichtungsparameter wie Belichtungszeit, Intensität und Energie. Diese Parameter werden verwendet, um die Größe, Form und Genauigkeit des Musters anzupassen, das auf das Substrat projiziert wird. PAS 5500/100 enthält auch ein Scanwerkzeug, mit dem das Substrat unter die Belichtungsköpfe bewegt wird. Dies wird verwendet, um die Belichtung verschiedener Teile des Substrats zu ermöglichen, wodurch das Asset Muster auf mehreren Oberflächen projizieren kann. Schließlich enthält das Modell eine Wafer-Steuereinrichtung. Dies wird verwendet, um die Positionsgenauigkeit und Belichtungseinstellungen für jeden Wafer zu steuern. Es wird verwendet, um den Fokus, die Belichtungszeit, die Intensität und die Energieparameter festzulegen, um eine konsistente, qualitativ hochwertige Projektion der Muster auf die Oberfläche des Substrats zu gewährleisten. Abschließend ist ASML PAS 5500/100 eine hochgenaue Maschine, mit der Muster auf die Oberfläche eines Siliziumwafers übertragen werden. Es enthält eine Reihe von Komponenten, darunter eine Maskenplatte, eine Lichtquelle, einen Belichtungsregler, ein Abtastsystem und eine Wafer-Steuereinheit, die es ermöglichen, bei der Projektion von Mustern auf das Substrat eine nahezu atomare Auflösung zu erzielen.