Gebraucht ASML PAS 5500 / 100C #9228851 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9228851
Stepper
Uniformity: %
22x22 mm: </= 1.6
14.7*27.4mm: </= 1.6
Intensity: >/= 850 mW/cm^2
Lamp Life: 1500W: </= 150 hrs
Dose repeatability & accuracy: </= 1
Reticle masking black border size: </= 475
Image performance:
Astigmatism: </= 0.35
Focal plane deviation: </= 0.45
UDOF @ 0.40 um lines: >/= 1um
Focus / Leveling:
Focus repeatability focus: </= 50nm
Rx: </= 3 urad
Ry: </= 3 urad
FOCAL: Valid positions ≧ 14
Best focus < ± 0.2 um
Image tilt Rx < ± 5 urad
Image tilt Ry < ± 5 urad
Image distortion (lens):
Max X (NCE): </= 60nm
Max Y (NCE): </= 60nm
Magnification: </= 2 ppm
Rotation: </= 2 urad
Symmetrical T: </= 10 nm/cm2
Trapezoidal: </= 10 nm/cm2
Overlay performance:
Stage repeatability
Max x: </= 15nm
Max y: </= 15nm
Single machine: </= 60nm
2-NA Global overlay:
NA=0.48
NA=0.57
Prealigner accuracy:
Edge sensor
X (3sig): </= 8.5um
Y (3sig): </= 8.5um
Rotation (3sig): </= 180 urad
Edge sensor:
SD Y < ± 2.1 um
SD Rot < 45 urad
SD X < ± 2.1 um
Mark sensor:
SD Y < ± 2.1 um
SD Rot < 45 urad
SD X < ± 2.1 um
Image quality control (3sig):
Focus: </= 50 nm
Image Rx: </= 2 urad
Image Ry: </= 2 urad
Translation: </= 20 nm
Magnification: </= 2 ppm
Rotation: </= 2 urad
Throughput
(70) Shots at 200 mJ, 8": >/= (70) Wafers / Hour
Reticle exchange time: </= 29 Seconds
System reliability: > 500 PCs
Particle: 0.2um < 10ea
Laser output:
Alignment laser: > 12 mw
Interferometer HP laser: > 220 μw
Missing parts:
MVR Rack power supply
Lens bag inactivity
Workstation hard disk
(2) ACU Air pipes
Wafer handler elevator: 3/4 Cover.
ASML PAS 5500/100C ist ein Waferstepper, der hauptsächlich zum Projizieren von Masken auf eine Reihe von Substraten verwendet wird. Es ist weit verbreitet in Branchen wie Halbleiterherstellung, Solar- und Flachbildschirme. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen, die entwickelt wurden, um den Durchsatz zu maximieren und gleichzeitig Lärm und andere negative Faktoren zu minimieren; beispielsweise bietet das Gerät eine Umpositionierungszeit von unter 0,9 Sekunden, wodurch schnelle Durchlaufzeiten für Aufträge gewährleistet sind. Dieses System enthält auch Umgebungssensoren, die eine intelligente Überwachung der Umgebungsatmosphäre unterstützen und eine Reaktion und Kontrolle der Temperatur, Statik und Feuchtigkeit ermöglichen. Das Gerät ist kompatibel mit einer Reihe von Optik- und Lichtquellen, einschließlich ArF-Laserquellen, tiefen UV-Lichtquellen und mehr, um sicherzustellen, dass Aufträge aller Größen und Komplexität abgeschlossen werden können. Es enthält auch spezielle Funktionen, die für Aufgaben wie OPC-Verarbeitung und Stichdruck erforderlich sind. Der modulare Aufbau ermöglicht es Benutzern, ihre Geräte frei auszutauschen und nach ihren Bedürfnissen zu konfigurieren und so maximale Effizienz zu gewährleisten. Die Maschine wurde mit fortschrittlicher Robotik entwickelt, um Vibrationen sowohl vertikal als auch horizontal zu minimieren und präzise Muster und hochwertige Bilder zu gewährleisten. Sein hocheffizientes Kühlwerkzeug sorgt für eine gleichmäßige Verteilung der Partikelwärme in der gesamten Kammer bei gleichmäßiger Oberflächengüte. Darüber hinaus wurde das fortschrittliche Laser-Streumessgerät entwickelt, um eine hohe Genauigkeit zu gewährleisten und sicherzustellen, dass die Bilder konsistent auf Sub-Mikron-Ebenen ausgerichtet sind. ASML PAS5500/100C verfügt über eine ultraschnelle Bewegungssteuerung, die mit Frequenzen von bis zu 2kHz betrieben werden kann. Es ist sehr reaktionsschnelles Design sorgt für schnelle Reaktionszeiten, um auf Steuerbefehle des Bedieners für sofortige Anpassungen zu reagieren. Das Modell enthält außerdem eine umfassende Profilbibliothek und eine Reihe weiterer Funktionen zur vollständigen Kontrolle des Bildgebungsprozesses. Darüber hinaus ist es mit vielen Sicherheitsfunktionen wie Abschaltsicherheit, Erkennung angehobener Objekte und Erkennung von Bühnenkollisionen konzipiert. Dieser Wafer Stepper ist für maximale Vielseitigkeit ausgelegt und verfügt über eine Reihe von Funktionen, die ihn für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet machen. Sein Leistungsspektrum macht es sehr zuverlässig und effizient, ein Schlüsselfaktor für seine Popularität bei den Silizium-Geräteherstellern.
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