Gebraucht ASML PAS 5500 / 100D #9228177 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9228177
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Stepper, 8"
Illumination:
Uniformity:
22.0 x 22.0mm [%]: ≤1.5
14.7 x 27.4mm [%]: ≤1.5
Intensity: 900 mw/cm2
Dose repeatability & accuracy [%]: ≤1.0
Dose matching [%]: ≤2.0
Imaging:
UDOF (0.4nm) [um]: ≤1-0
Overlay:
Global overlay: 99.7% (All errors)
Day 1 [nm]: X<60, Y<60
Day 2 [nm]: X<60, Y<60
Day 3 [nm]: X<60, Y<60
Stage accuracy [um]: X<15, Y<15
Material handling:
Prealign accuracy X pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Y pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Φ pos [3Σ][urad]: ≤180
Distortion:
Lens distortion [nm]: X ≤ 60, Y ≤ 60
Magnification [ppm]: ≤ 2.0
Die rotation [urad]: ≤ 2.0
Symmetrical [nm/cm2]: X≤ 10
Trapezoidal [mn/cm2]: Y≤ 10
1996 vintage.
ASML PAS 5500/ 100D ist einer der fortschrittlichsten und zuverlässigsten Waferstepper für photolithographische Anwendungen auf dem Markt. Dieser Stepper bietet erstklassige Prozessleistung in allen Funktionsgrößen. ASML PAS 5500/100D ist modular aufgebaut und ermöglicht maximale Flexibilität und Erweiterbarkeit. Es ist mit einer fortschrittlichen optischen Ausrüstung, die für High-End-Präzision Ausrichtung und Belichtung konzipiert ist gebaut. Dieses System ist für die Amplituden- und Phasenmodulation des Belichtungslichts konzipiert und bietet eine ausgezeichnete räumliche Auflösung und einen höchsten Dynamikbereich. PAS 5500/100 D verfügt zudem über eine vollautomatische Ausricht- und Overlay-Plattform, die eine schnelle Echtzeit-Overlay-Messung und Verifizierung im Prozess ermöglicht. Diese Plattform ermöglicht es dem Benutzer, die vollständige Maskenverarbeitung über den Wafer zu überwachen und zu steuern. Die verbesserten Linearmotoren und Antriebe ermöglichen eine reibungslose, genaue und wiederholbare Bewegung. Der Stepper umfasst auch erweiterte Steuerungs-, Überwachungs- und Diagnosefunktionen, die eine genaue Kontrolle und einen sicheren Prozess bieten. Der Stepper kommt auch mit einer hochpräzisen Registrierungs- und Ausrichteinheit, die einen doppelten Satz von 4-Achsen-Linearmotoren und einen Encoder enthält. Diese Maschine ist für eine sehr genaue und stabile Registrierung und Ausrichtung während des Belichtungsprozesses ausgelegt. Der Stepper verfügt auch über eine Reihe von fortschrittlichen Wafer Handhabungstechnologie wie Wafer Reinigung und Inspektion, Wafer Substrat und Rahmen Ausrichtung, Wafer Substrat und Rahmen Verifizierung, Wafer Substrat Erkennung und Wafer-Restkanten Erkennung. PAS 5500/100D ist auch mit fortschrittlichen Sicherheitssystemen ausgestattet, die die Sicherheit des Personals und die Handhabung von Wafern gewährleisten. Der Stepper enthält ein Brandschutzwerkzeug und ein Aerosol-Freisetzungsmittel, das die Bearbeitungsschritte bei Bedarf stoppen kann. Der Stepper wurde auch entwickelt, um vor Umweltbedingungen zu schützen, die die empfindlichen optischen Komponenten des Modells beschädigen oder den Waferprozess beeinflussen könnten. Der Stepper garantiert auch maximale Leistung für kristalline Strukturen sowie für amorphe Strukturen. PAS 5500/ 100D ist die perfekte Wahl für alle photolithographischen Anwendungen, die einen präzisen und zuverlässigen Betrieb erfordern.
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