Gebraucht ASML PAS 5500 / 1100 #293668650 zu verkaufen

ASML PAS 5500/1100 ist eine Wafer-Stepper-Ausrüstung zur Herstellung integrierter Schaltungen auf Wafern. Das Schrittsystem besteht aus einem Ausrichtmikroskop, einer Projektionsoptik und einem Advanced Stepper Module (ASM). Das Ausrichtungsmikroskop ist ein spezialisiertes optisches Mikroskop mit hochauflösenden Funktionen zur präzisen Ausrichtung von Photomaske und Wafer. Die Projektionsoptik bietet eine hochauflösende Abbildung der Fotomaske auf den Wafer, die eine sehr präzise Ausrichtung der Merkmale für den Lithographieprozess ermöglicht. Das ASM ist verantwortlich für die feine Steuerung der Bewegung der Bühne, die sowohl die Photomaske als auch den Wafer hält, um das gewünschte Muster auf dem Wafer zu erzeugen. ASML PAS 5500/1100 ermöglicht eine flexible Anordnung von bis zu zwölf verschiedenen Prozessmodulen, wobei die Module ASM, Mikroskop und Projektionsoptik miteinander geteilt werden. Die Schritteinheit kann sowohl im Schritt- als auch im Abtastbetrieb betrieben werden, wobei die Maschine eine Doppelspaltenkonfiguration verwendet, um im Abtastmodus Abtast- und Ausrichtfunktion zu trennen. Das Werkzeug verfügt über eine XY-Stufe, die es dem Schrittkopf ermöglicht, die Fotomaske und den Wafer relativ zueinander zu bewegen und genau zu positionieren. Das ASM bietet eine Regelung für hochpräzise Bewegungen in der XY-Ebene und die Fokuseinstellung, um die Lithographie-Anforderungen einer Vielzahl von Wafern zu erfüllen. Das Asset ist so konzipiert, dass es für jedes Modul eine unabhängige Regelung hat, wodurch hochpräzise Einstellungen und maximale Stabilisierung jedes Moduls während der Produktion möglich sind. Der Stepper hat ein großes Sichtfeld, das eine große Anzahl von Mustern auf dem Wafer unterstützen kann, und die Waferstufe ist so konzipiert, dass sie niedrig-kV und vibrationsfrei ist, um fortschrittliche Prozesse zu unterstützen. PAS 5500/1100 bietet große Leistung, Genauigkeit und Zuverlässigkeit. Das Modell hat eine programmierbare Schrittweite und kann bis zu 6.000 μ m in X und Y steigen und bietet eine Belichtungsgenauigkeit von +/- 1,5 μ m. Es bietet auch hochqualitative Bildgebung mit 39nm Auflösung, energieeffizientem Betrieb und verbesserten Zykluszeiten. Zusätzlich zu diesen Eigenschaften verfügt die Wafer-Schrittausrüstung über ein robustes Netzwerk integrierter Sensoren, einschließlich Temperatur, relativer Luftfeuchtigkeit und Vibrationssensoren sowie verschiedener Kamerasysteme, die die Überwachung der Umwelt unterstützen und eine optimale Zyklustemperatur und Luftfeuchtigkeit aufrechterhalten. Das System wird während des lithographischen Prozesses jederzeit überwacht und ermöglicht eine kontinuierliche Prozessoptimierung. Schließlich bietet PAS 5500/1100 Ingenieuren fortschrittliche Automatisierungs- und Steuerungstools, um ihre Prozesse zu optimieren und höchste Qualitätsstandards zu erreichen.