Gebraucht ASML PAS 5500 / 1100 #9219196 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9219196
Wafergröße: 8"
ArF Scanner, 8"
193nm Lithography
Signal tower: Local
SPM Alignmet: Standard
Optical prealign mark sensor: Standard
Wafer type: Notch
FAT Attendance
Laser type: CYMER Laser
Extended exposure
IRIS Reticles, 6"
Cassette elevator position: 1 / 2
Wafer track interface: TEL Mark 5 / 7 / 8 / ACT8
SECS I / II Interface
Batch streaming: Advanced RMS
Tape streamer OCU-MK4
Single reticle SMIF handling
Sign all
Reticle SMIF pod tag reader: Stepper version
Metrology data interface
Reticle barcode reader 24 char
Extended exposure translation
ASF E-Chuck flatness qualification
ASF Application specific lensheet
CSR CSR4066 / CSR 4442 Various
Extended exposure
Hose / Cable set: 25m
Multiple exposure
Quasar: DOE ID13 MP4 30 Included
ASF Small marks
IOSc-3 Packages
PEP 1100
Dose mapper
ASF Improved TIS measurement
Key tool performance indicators:
Focal plane deviation [nm]: 98
Astigmatism [nm]: 68
Lens distortion measured 139 points / Field:
Non-correctable error [nm]
NCE X: 2.7
NCE Y: 1.7
Dynamic performance:
Moving standard deviation mean +3 sigma: 7.5
Moving average mean +3 sigma: 1.9
Focus & levelling:
Focus repeatability (3σ) [μm]: 0.021
Level-ling repeatability:
Rx (3σ) [μrad]: 1.02
Ry (3σ) [μrad]: 1.11
Overlay performance:
Stage repeatability:
X [nm]: 1.6
Y [nm]: 3.1
Single machine overlay: 99.7% (Worst case, from stable phase) [nm]
X - Maximum 99.7%: 7.7
Y - Maximum 99.7%: 7.3
Matched machine overlay (99.7%): 10.6
Material handling:
X Position (3σ) [μm]: 0.39
Y Position (3σ) [μm]: 1.92
Rotation θ (3σ) [μrad]: 18.21
Image quality control:
3σ Image sensor measurements:
Focus repeatability: 4.78
Image tilt repeatability (Rx): 0.23
Image tilt repeatability (Ry): 0.31
Translation repeatability: 0.69
Magnification repeatability: 0.03
Die rotation repeatability: 0.06
Reticle inspection systems IRIS option:
Size and position reproduciblity: 0.997
Position range / Size standard deviation: 0.997
Inspection time [s]: 140
Stray light:
Cleaning trigger: 3.22%
Tamis:
Z7: 0.592
Z8: 1.271
Z9: 0.29
Additional elements tool include:
Laser 4kHz: Upgraded source / CYMER 7600A Laser
IRIS: Reticle inspection system
IOSc 3+: Overlay improvement
Quasar:
Automated DOE exchanger
Metrology data interface
Hertz: 60 Hertz
Power: 208 V.
ASML PAS 5500 und 1100 sind Waferstepper, die in der Halbleiterindustrie zur Herstellung integrierter Schaltungen eingesetzt werden. ASML PAS 5500 und 1100 sind fortschrittliche Belichtungswerkzeuge, die einen vertikalen Strahl aus ultraviolettem Licht verwenden, um Halbleitermuster auf einem Siliziumwafer auf Photolack zu machen. Sowohl der PAS 5500 als auch der PAS 1100 sind die neuesten Scanprojektions-Lithographiesysteme, die mit einem Laserinterferometer die besten Ergebnisse für Overlay, Wiederholbarkeit und Genauigkeit erzielen. Das System bietet eine Auflösung von 0,3 Mikrometern und eine numerische Apertur (NA) von 0,65. Charakteristisch für die Systeme ist ihre variable Feldgrößenfähigkeit, die eine Anpassung der Strahlform an verschiedenste Muster und Teilungsgrößen ermöglicht. ASML PAS 5500 und 1100 sind mit einem Multi-Megapixel-Belichtungskopf ausgestattet, der die Auflösung von Sub-10 Nanometern ermöglicht. Es weist außerdem eine verbesserte Tauchlithographie auf, wobei zwischen der Projektionslinse und dem Wafer Flüssigkeit gefüllt ist. Dies erhöht die Lichtdurchlässigkeit, was zu einer besseren Bilderzeugung führt. Der Wafer-Stepper verfügt über ein fortschrittliches Servosystem, das schnelle Bewegungen und Belichtungen des Wafers mit hoher Genauigkeit ermöglicht. Es hat auch eine Reihe von intelligenten Funktionen wie intelligente Vorausrichtung, effiziente Kantenausrichtung und effiziente Musterung. Darüber hinaus bieten die Systeme einen hohen Durchsatz und niedrige Betriebskosten. Das System bietet eine intuitive Benutzeroberfläche mit erweiterten Automatisierungsoptionen, wodurch es einfach und effizient zu bedienen ist. Es unterstützt auch die Ferndiagnose und bietet webbasierte Werkzeugüberwachungssysteme. ASML PAS 5500 und 1100 sind einige der fortschrittlichsten Wafer Stepper in der Halbleiterindustrie, mit ihrer hohen Auflösung und kurzen Belichtungszeit machen sie ideal für die Herstellung von Sub-Mikron-Geräten.
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