Gebraucht ASML PAS 5500 / 1100B #9161690 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9161690
ArF Scanner, 8"
193nm Lithography
Signal tower: Local
SPM Alignmet: Standard
Optical prealign mark sensor: Standard
Wafer type: Notch
FAT Attendance: Yes
Laser type: CYMER Laser
Extended exposure: Yes
IRIS-6 Inch reticles: Yes
Cassette elevator position: 1 / 2
Wafer track interface: TEL Mark 5 / 7 / 8 / ACT8
SECS I / II Interface: Yes
Batch streaming: Advanced RMS
Tape streamer OCU-MK4 / Less: Yes
Single reticle SMIF handling: Yes
Sign All: Yes
Reticle SMIF pod tag reader: Stepper version
Metrology data interface: Yes
Reticle barcode reader 24 char: Yes
Extended exposure translation: Yes
ASF E-Chuck flatness qualification: Yes
ASF Applic specific lensheet: Yes
CSRs Vanous: CSR4066 / CSR 4442
Extended exposure: Yes
25m Hose / Cable set: Yes
Multiple exposure: Yes
Quasar: Yes (DOE ID13 MP4 30 Included)
ASF Small marks: Yes
IOSc-3 Packages: Yes
PEP1100: Yes
Dosemapper: Yes
ASF Improved TIS measurement: Yes
Hertz: 60 Hertz
Power: 208 Volt
Key tool performance indicators:
Focal plane deviation [nm]: 98
Astigmatism [nm]: 68
Lens distortion measured 139 points / field:
Non-correctable error [nm]
NCE X: 2.7
NCE Y: 1.7
Dynamic performance:
Moving standard deviation mean +3 Sigma: 7.5
Moving average mean +3 Sigma: 1.9
Focus repeatability (3σ) [μm]: 0.021
Level-ling repeatability:
Rx (3σ) [μrad]:1.02
Ry (3σ) [μrad]:1.11
Overlay performance:
Stage repeatability:
X [nm]: 1.6
Y [nm]: 3.1
Single machine overlay: 99.7%
X - Max 99.7%: 7.7
Y - Max 99.7%: 7.3
Matched machine overlay (99.7%): 10.6
Material handling:
X Position (3σ) [μm]: 0.39
Y Position (3σ) [μm]: 1.92
Rotation θ (3σ) [μrad]: 18.21
Image quality control:
3σ Image sensor measurements:
Focus repeatability: 4.78
Image tilt repeatability (Rx): 0.23
Image tilt repeatability (Ry): 0.31
Translation repeatability: 0.69
Magnification repeatability: 0.03
Die rotation repeatability: 0.06
Reticle inspection systems IRIS option:
Size and position reproduciblity:
Position range / Size standard deviation: 0.997
Inspection time [s]: 140
Stray light:
Cleaning trigger: 3.22%
Tamis:
Z7: 0.592
Z8: 1.271
Z9: 0.29
Additional elements tool include:
Laser 4kHz: Upgraded source / CYMER 7600A Laser
IRIS: Reticle inspection system
Dose mapper
IOSc 3+: Overlay improvement
Quasar:
Automated DOE exchanger
Metrology data interface.
ASML PAS 5500/ 1100B ist ein Wafer Stepper, eine Art Maschine, die von der Halbleiterindustrie verwendet wird, um integrierte elektronische Schaltungen zu erstellen. Es wird verwendet, um eine Photomaske (ein fotografisches Bild mit Schaltungsmustern) auf einen ultradünnen Wafer zu übertragen. PAS 5500/ 1100B ist ein Hochleistungsgerät, das eine breite Palette von Materialien und Gerätegrößen unterstützt. Es verfügt über ein zweistufiges Abtastsystem, das hochgenaue Strukturen erzeugen kann. ASML PAS 5500/ 1100B verwendet eine Kombination aus optischen Linsen, Scantechnologie und präzise konturierten Spuren, um präzise und konsistent Submikron-Funktionsgrößen auf Wafern zu erstellen. Es verwendet auch ein innovatives Beleuchtungsdesign, das die Verzerrung des Fotomaskenbildes reduziert und gleichzeitig eine höhere Auflösung gewährleistet. Dieses System arbeitet mit Geschwindigkeiten von bis zu dreihundert Wafern pro Stunde und bietet hohe Durchsatzmöglichkeiten. PAS 5500/ 1100B erfordert minimale Rüstzeiten und kann problemlos in eine Produktionslinie integriert werden. Es verwendet schnelles, vollautomatisches Wafer-Handling. Dadurch kann die Fotomaske schnell erkannt, gescannt und auf den Wafer übertragen werden, ohne dass ein menschliches Eingreifen erforderlich ist. ASML PAS 5500/ 1100B ist sehr zuverlässig und kann eine breite Palette von Wafern verarbeiten, von groß bis klein. Es hat eine geringe Stellfläche und ist in der Lage, in Standardproduktionsmodi sowohl für die Serienproduktion als auch für die Produktion mit geringen Stückzahlen zu arbeiten. Das System unterstützt auch extrem empfindliche Funktionen wie Musterdruck, Ausrichtung und Mikroscannen. PAS 5500/ 1100B ist eines der am weitesten verbreiteten Systeme für die Photolithographie in der Halbleiterindustrie. Es bietet eine zuverlässige und präzise Lösung für die Erstellung von hochwertigen integrierten Schaltungen. Diese Technologie hat es der Halbleiterindustrie ermöglicht, qualitativ hochwertigere, kleinere und komplexere integrierte Schaltungen kostengünstig und schneller herzustellen.
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