Gebraucht ASML PAS 5500 / 20 #293817873 zu verkaufen

ASML PAS 5500/20 Wafer Stepper ist ein wertvolles Werkzeug für die Halbleiterherstellung, bietet qualitativ hochwertige Photolithographie-Prozesse, unterschieden durch seine fortschrittliche optische Design und bildgebende Auflösung. Dieser Stepper ist mit einem großen 20-Zoll-Membranfeld ausgelegt und kann Strukturen mit einer Belichtungsfläche von 0,5 mm ² bis 200 mm ² herstellen und inspizieren. Dieser Stepper hat eine Instrumentenauflösung von 2500 x 2500 Half Pitch Line/Space (HPL/S) mit einer Ausrichtungsgenauigkeit von 0,2 Mikrometer (µm) und einem gesamten Abbildungsbereich, der auf 250 mm x 200 mm erweitert werden kann. PAS 5500/20 ist mit einem 5x Reduktions- und Lithographiesystem mit Glühlampen und hochkontrastvoller Projektionsoptik konzipiert, was eine Gesamtreduzierung eines bis zu 5x transportierten 4 mm Wafers ermöglicht, was zu einer Bildfeldgröße von 0,8 mm führt. Eine breite Palette von Optionen kann dem Stepper hinzugefügt werden, einschließlich kundenspezifischer Objektive, Spektralfilter und Automatisierungssoftware. Um die Präzision des Steppers zu erhöhen und seine Genauigkeit für jeden Musterstift zu erhöhen, wurde es mit Mix-and-Match-Technologie entwickelt, mit der verschiedene Stifte unabhängig voneinander angepasst werden können. ASML PAS 5500/20 verfügt auch über ein modernes Beleuchtungssystem, das eine gleichmäßige Beleuchtung bietet und gleichzeitig eine durchschnittliche Durchsatzgeschwindigkeit von 100 Wafern pro Stunde ermöglicht. Es verfügt auch über eingebaute Ausrichtungsmerkmale, die eine einfache und schnelle Ausrichtung von Wafern mit Strukturen für weitere Genauigkeit ermöglichen. Der Stepper ist auch mit In-situ-Messfähigkeit ausgelegt, die eine nahezu sofortige Charakterisierung von Wafern und eine schnelle Identifizierung von Anomalien oder Tröpfchenwaagenfehlern ermöglicht. Die kompakte Bauweise ermöglicht eine einfache Montage in Halbleiterreinräumen mit einer Höhe von nur 138 cm und einer Gesamtbreite und -länge von ca. 92 cm x 101 cm. Mit seinem effizienten Kühlsystem, dem geringen Wartungsaufwand und der geringen Umweltbelastung ist PAS 5500/20 ein ideales Werkzeug für kritische Photolithographie-Prozesse in der Halbleiterindustrie.