Gebraucht ASML PAS 5500 / 200 #9095592 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9095592
Wafergröße: 8"
Stepper, 8"
Scan speed: 320 mm/sec
Reticle size: 6"
Chuck: Pin chuck
Wafer: Flat zone
Flow: Right
Computer: SPARC-5
ASML Software version 8.7.0 with Y2K completion
(2) WL Ports
Lens type: (80)
Max NA: 0.6
BMU: Standard
Power supply
Temperature control
Electronic control: WS lamp
Reticle changer
Wafer changer
ASML 200 lens data
FEM
UL: 0.02
UR: -0.08
C: 0
LL: 0
LR: 0
IQC
Focus: 65.85
Pressure: 967
Dose
Respectability: 0.08 %
Accuracy: 0.05 %
Sum: 0.13 %
Uniformity
Percentage: 4.27
Tilt X: -0.04
Tilt Y: -0.66
Distortion
Max DX: 34 nm
Max DY: 68 nm
NCE X: 36 nm
NEC Y: 37 nm
Currently de-installed.
ASML PAS 5500/200 ist ein High-End-Wafer-Stepper, der ein großes Sichtfeld mit fortschrittlicher Bildgebung und Pixelausrichtungsgenauigkeit kombiniert. Dieser Stepper bietet hochauflösende Bildgebung und verbesserte Prozessleistung und ist somit perfekt für Halbleiterherstellungsanwendungen geeignet. Das gesamte Sichtfeld von ASML PAS 5500/200 beträgt 43 mm und bietet eine vollständige Palette von Substratbildern. Die maximale Auflösung des Steppers beträgt 5,6 Mikrometer, mit einer hochpräzisen Auflösung der Linienbreite von 1,5 Mikrometern. Darüber hinaus bietet PAS5500/200 eine erweiterte Ausrichtungsgenauigkeit auf Pixelebene mit einer Genauigkeitsstufe von 21 nm mit Kantenüberschneidung. Dies ermöglicht das präzise Bedrucken kritischer Musterschichten mit maximaler Prozesswiederholbarkeit. Der Stepper verfügt über eine Vielzahl von Funktionen und Steuerungen, die ihn ideal für anspruchsvolle und empfindliche Halbleiterherstellungsprozesse machen. PAS 5500/200 verfügt über Y-Achsen-Scannen zum Scannen kleiner Muster, wodurch maximale Genauigkeit in der Größe und Position der Funktionen beim Mustern gewährleistet ist. Der Stepper verfügt außerdem über einen variablen Dosismodus für präzise, ungleichmäßige Dosisverteilungen, wodurch die Gesamtexpositionsdosis und der Energieverbrauch reduziert werden. Der Stepper ist mit einem langlebigen lufttragenden Rahmen und Scannerkopf gebaut und bietet maximale Systemstabilität sowie ein symmetrisches Design, um die Bewegungsgenauigkeit zu maximieren. ASML PAS5500/200 enthält auch einen leistungsstarken Host-Computer, der eine leistungsstarke Anwendungskontrolle, Unterstützung für eine Vielzahl von Benutzeroberflächen sowie manuelle Steuerung von optischen Systemparametern bietet. Insgesamt ist PAS 5500 / 200 Schritt-Oblate eine fortgeschrittene, hochwertige Bildaufbereitungs- und Anordnungslösung für Präzisionshalbleiterherstellungsanwendungen. Mit seinen qualitativ hochwertigen Bildgebungsfunktionen, verbesserter Prozessleistung und integriertem Kontrollsystem können Benutzer effiziente und genaue Leistung genießen.
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