Gebraucht ASML PAS 5500 / 300 #9188016 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9188016
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
i-Line stepper, 8"
Software version: 8.8.6
Hardware configuration (Fab):
OCU-Console
Main body
Electronic cabinet
Handler system: WTS
Hardware configuration (Subfab / Auxilliary units):
TCU
AAR Cabinet
Transfomer
Charcoal filter cabinet
Cymer laser
Equipment configuration:
CPU Type: SPARC5
CM Options:
Lens number: 0107577b
Lens type: 78
Field diameter: 31.1
ARMS / RMS: ARMS
Chuck type: SiC
Athena: Yes
Currently de-installed and warehoused
2000 vintage.
ASML PAS 5500/300 ist ein hochpräziser Wafer-Stepper für die Lithographie. Es handelt sich um einen optischen Projektionsdrucker, bestehend aus einer Hochleistungslichtquelle, Präzisionsoptikelementen und einer Bühneneinrichtung, die einem vorgegebenen Bewegungsmuster folgt. Der Wafer-Stepper arbeitet, indem er zuerst den Wafer mit einem lichtempfindlichen Material beschichtet, das als Photoresist bezeichnet wird. Zwischen der Lichtquelle und dem Wafer wird dann eine großflächige Maske angeordnet, die ein computergeneriertes Muster enthält. Die Lichtquelle beleuchtet das Muster, das wiederum auf den Wafer projiziert wird. Das Präzisionsstufensystem bewegt dann den Wafer in Bezug auf die Maske, so dass sich minutengenaue Fokus- und Positionsänderungen ergeben, um sicherzustellen, dass jedes aufeinanderfolgende Bild genau übertragen wird. Diese Art der Genauigkeit ist entscheidend für die Ausrichtung der winzigen Schaltungselemente, da der Wafer mit aufeinanderfolgenden Mustern projiziert wird. Beim ASM ASML PAS 5500/300 ist die Genauigkeit durch den Einsatz einer fortgeschrittenen Piezo-Kombinationsbewegung gewährleistet. Dieses Gerät passt die genaue Position und Geschwindigkeit der Bühnenmaschine jederzeit an und gewährleistet höchste Genauigkeit, ohne auf einen Druckregler oder eine große bewegte Masse angewiesen zu sein. Neben seiner beeindruckenden Genauigkeit verfügt PAS 5500/300 über ein proprietäres DFL-Bildgebungsverfahren. Dieses Verfahren kombiniert zwei völlig unabhängige Abbildungssysteme in einer Achse, was erhöhte Belichtungszeiten ermöglicht, was zu einer effizienteren Photolithographie führt. Abschließend ist PAS 5500/300 ein hochpräziser Wafer-Stepper, der speziell für die Photolithographie entwickelt wurde. Mit seinem fortschrittlichen Piezo kombiniert Bewegung und Doppelfrequenz-Bildgebung, ASML ist die perfekte Wahl für jede Anwendung, die höchste Genauigkeit erfordert.
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