Gebraucht ASML PAS 5500 / 300 #9211288 zu verkaufen

ASML PAS 5500/300 ist ein Wafer-Stepper, der für die Photolithographie in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es ist ein Step-and-Scan-Tool, das für eine extrem hohe Serienproduktion entwickelt wurde und über eine vollständig automatisierte Wafer-Handhabungsausrüstung verfügt, die konsistente und wiederholbare Belichtungsfunktionen bietet. Das Werkzeug ist in der Lage, bis zu 300 mm Silizium-Wafer zu verarbeiten, so dass es ideal für die Herstellung von komplexen System-on-a-Chip (SoC) -Designs ist. ASML PAS 5500/300 ist mit einer Reihe patentierter Technologien ausgestattet, darunter Vollfeldoptik, Laserinterferenzlithographie und Doppelpassoptik. Die Vollfeldoptik verfügt über fünf Linsen mit 25 mm Durchmesser und bietet 0,65 NA von Maske zu Wafer für eine optimale Bildgebung. Die Laserinterferenzlithographie (LIL) kombiniert zweidimensionale sinusförmige Wellenformen mit traditioneller Beleuchtung, um hochauflösende binäre Merkmale bis zu einer minimalen Linewidth @ CD von 35 Nanometern zu schaffen. Schließlich erreicht die Doppelpaßoptik 0,25 μ m Auflösung über das volle 25 mm Sichtfeld. PAS 5500/300 verfügt auch über einen zweistufigen Galvano-Scanner, der den Wafer über die volle 300 mm mit minimaler Verzerrung scannen kann. Der Galvano-Scanner hat eine maximale Abtastgeschwindigkeit von 30.000 Zeilen/Sekunde und eine maximale Geschwindigkeit von 0,5 m/s und bietet einen hohen Durchsatz und schnelle Zykluszeiten. Darüber hinaus verfügt die Waferstufe über zwei Aktoren, um eine präzise Positionsgenauigkeit zu gewährleisten, und eine vibrationsabsorbierende Maschine, um Umweltstörungen zu mindern. PAS 5500/300 verfügt über ein vollautomatisches Wafer-Handhabungswerkzeug, das eine präzise Platzierung des Wafers auf der Bühne und einen einfachen Transfer zwischen der Vorder- und Rückseite des Prozessors ermöglicht. Der Frontlader bietet ein leichtes Handling mit minimaler durchschnittlicher Wafer-zu-Wafer-Variation, um konsistente Belichtungsprofile zu erstellen. Die Kammer verfügt auch über einen atmosphärischen Regler, der konstanten Druck und Temperatur für eine Reihe von Last- und Prozessbedingungen bietet. Insgesamt ist der ASML PAS 5500/300 Wafer Stepper ein fortschrittliches Werkzeug mit innovativen Technologien, das ultrahohe Serienproduktion und konsistente, wiederholbare Belichtungen bietet. Die Kombination aus Vollfeldoptik, LIL, Doppelpass-Optik, Fastscanning und automatisierter Wafer-Handhabung machen das Werkzeug ideal für die Herstellung komplexer SoC-Designs mit hochauflösenden, niedrigen Linewidth @ CD-Funktionen bis zu 35 Nanometer.