Gebraucht ASML PAS 5500 / 300B #100797 zu verkaufen

ASML PAS 5500/ 300B Wafer Stepper ist ein kritisches Bauelement in der Halbleiterherstellung verwendet. Im Rahmen des Lithographieprozesses werden Waferstepper verwendet, um ein Muster auf den Wafer zu projizieren, wodurch der Zielbereich in irgendeiner Weise geätzt, bearbeitet oder manipuliert werden kann. PAS 5500/ 300B ist optisch ausgerichtet und enthält einen Beleuchter, eine Projektionsoptik, eine Ausrichtungsoptik, Stütz- und Bewegungssysteme, eine Beleuchtungseinrichtung und ein Vakuumsystem. Der Beleuchter ist die Quelle des projizierten Lichts und enthält eine Anzahl von Lampen, Lampenaufnahmen, einen Blendenantrieb und eine Blendenlinse. Der Beleuchter schützt auch vor mechanischem Spiel oder thermischem Schock der Bauteile. Je nach Belichtungszustand wird die gewünschte Belichtung ausgewählt. Die Projektionsoptik ist die Einrichtung, die für die Erzeugung des auf den Wafer projizierten Bildes verantwortlich ist und eine Objektivlinse, eine Kondensatorlinse, eine Abbildungslinse und ein optisches Filter umfasst. Die Objektivlinse fokussiert das Licht auf den Wafer und die Kondensatorlinse fokussiert das Licht auf die Abbildungslinse. Die Abbildungslinse formt dann das projizierte Bild, und das optische Filter wird verwendet, um die Wellenlänge von Licht auszuwählen, das für eine bestimmte Belichtung verwendet wird. Die Ausrichtoptik übernimmt die Handhabung und Bewegung des Wafers während des Prozesses. Die Ausrichtungsoptik steuert das Starten und Stoppen des Belichtungsprozesses sowie die Ausrichtung des Wafers auf die Abbildungslinse. Die Träger- und Bewegungseinheit sorgt für eine Ausrichtung zwischen dem Wafer und der Projektionsoptik. Die ursprüngliche Overlay-Genauigkeit, bei der die Belichtungsmuster genau und in der richtigen Ausrichtung auf den Wafer gesetzt werden, wird mit der Stütz- und Bewegungsmaschine beibehalten. Das Werkzeug umfasst viele Stücke wie, ein Blickfeld-Messmodul, eine Bewegungsstufe, einen Fokusregler, ein Laserinterferometer und eine Computerschnittstelle. Die Beleuchtungsanlage ist die Stromversorgung, die für alle elektrischen Komponenten des Modells verantwortlich ist und umfasst ein digitales Beleuchtungssteuermodul, ein Fernleistungssteuermodul, Leistungsverstärker, digitale Verstärkersteuerungen und Verstärker. Die Vakuumausrüstung ist für die Substratkammer verantwortlich, die den Wafer sowie andere Komponenten aufnimmt. Er hält den Druck während des Prozesses aufrecht und ist dafür verantwortlich, den Wafer während der Exposition sauber zu halten. Es hilft auch, dass Verunreinigungen in die Kammer gelangen und verhindert, dass Oxidation während des Belichtungsprozesses auftritt. Insgesamt ist ASML PAS 5500/ 300B ein unglaublich wichtiges Bauelement für die Halbleiterherstellung. Mit der Kombination aus Beleuchter, Projektionsoptik, Ausrichtungsoptik, Träger- und Bewegungssystem, Beleuchtungseinheit und Vakuummaschine kann es genau und präzise die Bilder erstellen, die verwendet werden, um Halbleiterchips zu manipulieren und zu formen.