Gebraucht ASML PAS 5500 / 300B #293817865 zu verkaufen

ASML PAS 5500/ 300B ist ein 300-mm-Hochleistungs-Wafer-Stepper für die Verarbeitung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Dieses Gerät bietet ultrahohen Durchsatz und erweiterte Musterleistung mit einer maximalen Auflösung von 0,1 Mikrometern. PAS 5500/ 300B ist ein fortschrittliches optisches Schritt- und Wiederhollithographiesystem. Sie basiert auf den Excimerlasern KrF, ArF und ArF-plus und ermöglicht eine breite Palette lithographischer Prozessfähigkeit. Mit der patentierten PAS300 Serie Superior Process Capability (SPC) Technologie kann dieses Gerät die komplexesten Muster abbilden. Es bietet auch Branchen unübertroffene Overlay und Fokus Genauigkeit, so dass es ideal für die Herstellung der neuesten Nanometer-Geräte. Diese Maschine ist vertikal integriert und umfasst zwei Präzisionsstufen, einen Laser, einen Beleuchter, eine Objektivlinse, einen Waferhalter und einen In-situ-Scanner. ASML PAS 5500/ 300B ist in der Lage, viele verschiedene Materialien zu strukturieren, darunter lichtempfindliche Harze, GaAs und ZnS. Es bietet eine branchenführende optische Auflösung von 0,1 Mikrometern bei einer Mindestfunktionsgröße von 0,4 Mikrometern. Dies ermöglicht eine extrem präzise Ätzung und Strukturierung. Als fortschrittliches Werkzeug ist PAS 5500/ 300B mit mehreren Spezialmerkmalen ausgestattet. Dazu gehören das interferometrische Überwachungsobjekt, der Wafer-Zentrierungseinsteller und die Optimierungstechnologie für die Platzierung innerhalb des Feldes. Mit diesen Designs ist das Modell in der Lage, unglaublich hohe Mustertreue bei minimaler Linienbreite Variation zu erreichen. Diese Ausrüstung ist für ultrahohen Durchsatz ausgelegt. Mit der Septuplet-Fähigkeit seines 4-Linsen-Systems kann ASML PAS 5500/ 300B 8 Wafer gleichzeitig verarbeiten. Es verfügt auch über flexible Auftragsverarbeitungsabläufe und die Möglichkeit, zeitkritische Lithographieaufgaben auszuführen. Mit seiner benutzerfreundlichen Oberfläche bietet PAS 5500/ 300B Genauigkeit und Geschwindigkeit kombiniert mit niedrigen Kosten für den Benutzer. Das Gerät kann eine breite Palette prozessfreundlicher Wafer von 3 Zoll bis 8 Zoll unterstützen und eignet sich perfekt für fortgeschrittene Photomasken-Anwendungen. Mit seiner überlegenen Musterleistung und robustem Design ist diese Maschine die ideale Lösung für die Verarbeitung von Halbleiterbauelementen.