Gebraucht ASML PAS 5500 / 300C #144388 zu verkaufen

ASML PAS 5500/300C ist ein hochmoderner Wafer-Stepper, der die Herstellungskosten senkt und die Prozesseffizienz verbessert. Es handelt sich um einen 25 nm +, 5-stufigen optischen Projektionsstepper mit einer maximalen Prozessgenauigkeit von ± 0,8 μ m. Der 300C verfügt über eine große LCD-basierte Benutzeroberfläche, die das Einrichten und Bedienen vereinfacht. Darüber hinaus ermöglicht die vollautomatische Ausrichtungsausrüstung dem Anwender, jede Waferorientierung vor jedem Belichtungsschritt schnell und präzise zu überprüfen. Der 300C verwendet ein fortschrittliches, Fünf-Masken-Muster-Projektorsystem, das große Sichtfelder mit hoher Geschwindigkeit abbilden kann. Die Fünf-Masken-Projektionseinheit besteht aus einer einzigen Master-einfallenden Lichtquelle und vier Master-Einfallsdetektoren. Die Master-Lichtquelle ist für die Erzeugung von fünf optischen Bildern verantwortlich, die zur Abbildung großer Sichtfelder auf den Wafer verwendet werden. Darüber hinaus ermöglicht diese Technologie eine höhere Geschwindigkeit und Genauigkeit als herkömmliche Einzelmasken-Projektionssysteme. Darüber hinaus ist der 300C mit verbesserten Musterabstimmungs- und Overlay-Funktionen ausgestattet, die eine schnelle und genaue Ausrichtung mehrerer Bilder ermöglichen. Neben Bildprojektion und Mustererkennung nutzt der 300C eine patentierte mehrstufige hochauflösende Bildgebungstechnologie. Diese Technologie verwendet zwei getrennte Stufen, um eine qualitativ hochwertige Abbildung des Wafers während jedes Verfahrensschritts zu erhalten. Die erste Stufe erfaßt das projizierte Muster und die zweite Stufe die notwendigen fokussierenden Informationen, um das Muster richtig zu fokussieren. Der 300C nutzt eine fortschrittliche, split-optische Maschine. Dieses Tool verwendet zwei separate optische Systeme, so dass Benutzer maximale Auflösung und Genauigkeit während des gesamten Prozesses zu halten. Darüber hinaus verringert das Split-Optical Asset die Abtastzeit durch Beibehaltung der gleichen Lichtintensität während aller Prozessschritte. Der 300C verwendet einen hochpräzisen Strahlscanner, der eine ultrahochpräzise Bildgebung bei Geschwindigkeiten von bis zu 5 μ m/Sekunde ermöglicht. Die planparallele Laseroptik ermöglicht eine möglichst hohe Genauigkeit bei der Abbildung großer Sichtfelder. Darüber hinaus kann diese Technologie zur komplexen Musterbildgebung und Maskenausrichtung eingesetzt werden. Insgesamt ist ASML PAS 5500/300C ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der hohe Genauigkeit und Leistung bietet. Die patentierte mehrstufige Bildgebungstechnologie, duale optische Systeme und hochpräziser Strahlscanner ermöglichen es Herstellern, qualitativ hochwertigere Erträge mit verbessertem Durchsatz und erhöhten Kosteneinsparungen zu erzielen.