Gebraucht ASML PAS 5500 / 300C #293746594 zu verkaufen
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ID: 293746594
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Stepper, 8"
CYMER ELS-5600 Laser
DONALDSON P198475 Filter
ARMS Reticle handler
Wafer handler
IL Bottom module
CT Cabinet
Electronic cabinet
OCU Unit
ARMS Control unit
Cover cart
2000 vintage.
ASML PAS 5500/300C ist ein modernster Wafer-Stepper, der zur Herstellung von fortschrittlichen integrierten Schaltungen (ICs) oder Mikrochips verwendet wird. Es ist ein maskenloser Stepper, eines der führenden Lithographiesysteme für High-End-Anwendungen. ASML PAS 5500/300C ist speziell für 2D- und 3D-Lithographieanwendungen konzipiert. Die Ausrüstung bietet Wiederholbarkeit mit erhöhter Prozesseffizienz durch fortschrittliche Technologie und Automatisierung. Es hat eine Scan-Geschwindigkeit von 1,6 × Vergrößerungen, die auf mehr als 80 Wafer pro Stunde übersetzt. Das System basiert auf einer einzigartigen zweistufigen optischen Einheit. Es verfügt über eine zweiachsige Ausrichtungsmaschine, eine erweiterte Strahlabtasteinheit und einen Hochleistungsbildgeber. Die integrierte Optikplattform bietet überlegene optische Leistung und überlegenen Durchsatz und ermöglicht eine schnellere Waferbearbeitung. PAS 5500/300C ist ein erstklassiger maskenloser Stepper, der eine hochgenaue Belichtung durchführen kann. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen, die entworfen sind, um die höchste Präzision und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Das Tool verwendet eine Reihe von Technologien für stabile und genaue Musterüberlagerung einschließlich: Korrelationsbasierte Ausrichtung, Overlay-Kompensation, Alignment Pattern Matching und Edge Refinement Algorithmen. Der Vermögenswert ist für seine Maskless Programmable Asymmetry (MPA) Funktion gut angesehen. Diese Funktion ermöglicht einstellbare Belichtungsparameter, um Schwankungen in Überlagerung und Nähe auszugleichen. Mit MPA kann die Waferoberfläche erfolgreich reduziert werden, was zu einer höheren Genauigkeit und Wirtschaftlichkeit für die IC-Produktion führt. Darüber hinaus verfügt PAS 5500/300C über ein neuartiges Erfassungsmodell mit erweiterten Bildvergleichen, Fehlererkennungs- und Fehlermessfähigkeiten. Es verfügt auch über eine patentierte Photomask-Maskless-Transfer-Technologie, mit der Benutzer Muster von optischer Maske auf Wafer genauer als je zuvor übertragen können. ASML PAS 5500/300C kann einfach in jede Lithographie-Ausrüstung integriert werden und wird durch eine breite Palette von Software-Tools unterstützt, so dass es vielseitiger als je zuvor. Es ist ein ideales Werkzeug für die Herstellung von hochvolumigen integrierten Schaltungen und anderen fortschrittlichen Mikrokomponenten. Mit seiner höheren Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Wirtschaftlichkeit ist ASML PAS 5500/300C zu einer führenden Wahl für die fortschrittliche Halbleiterherstellung geworden.
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