Gebraucht ASML PAS 5500 / 300C #293817864 zu verkaufen
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ID: 293817864
Stepper
Numerical Aperture (NA): 0.40-0.57
Resolution: 250 nm
Throughput (WPH): 88.
ASML PAS 5500/300C Wafer Stepper ist eine komplexe lithographische Ausrüstung zur Strukturierung von Halbleiterscheiben. Das System ist für die Herstellung von 300mm Wafern konzipiert und verfügt über einen hochauflösenden Scanner, eine unterschiedliche numerische Apertur (NA) und eine Reihe von Beleuchtungskonfigurationen. ASML PAS 5500/300C Stepper ist in der Lage, eine hohe numerische Apertur (NA) im Bereich von 0,200 bis 0,63 zu liefern. Das Gerät hat eine Feldgröße von 300mm und ist mit einer XY-Auflösung von 0,1 µm ausgestattet, was es ideal für Halbleiterproduktionsprozesse macht. Es wurde speziell entwickelt, um die ultimative Zuverlässigkeit, Genauigkeit und Auflösung für die großflächige bildgebende Lithographie zu bieten. PAS 5500/300C verfügt über einen hochauflösenden Scanner, der ein angrenzendes Feld mit nur 3 mm Auflösungslücke scannen kann. Der Scanner kann mit einer Abtastrate von bis zu 1000 mm/s arbeiten und eignet sich somit für die Produktion mit hohem Durchsatz. Darüber hinaus ist seine optische Maschine in der Lage, eine Vielzahl von Beleuchtungskonfigurationen unterzubringen, einschließlich Koehler, ringförmiges und gleichmäßiges Feld. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, eine breite Palette von Excimer- und Dioden-gepumpten Festkörper-Laserlichtquellen zu verwenden, einschließlich des ArF (Argonfluorid) -Lasers. PAS 5500/300C Wafer Stepper verfügt neben seinen erweiterten Bildgebungsfunktionen auch über eine Reihe von Automatisierungsfunktionen, die auf die Vereinfachung des Musterprozesses abzielen. Es verfügt über ein automatisiertes Wafer Handling-Asset, das einen schnellen Austausch von Wafern und Masken ermöglicht. Darüber hinaus ist es mit einer integrierten Prozesssteuerung ausgestattet, die eine Echtzeitsteuerung des Modells ermöglicht. Schließlich wird das Gerät durch eine Single-Chip-Architektur angetrieben, die für Hochgeschwindigkeits- und Ultra-Low-Overhead in der Bildverarbeitung konzipiert ist. Insgesamt ist ASML PAS 5500/300C Wafer Stepper eines der fortschrittlichsten Systeme zur Strukturierung von Halbleiterscheiben. Seine hochauflösende Scanner, variable numerische Apertur und erweiterte Automatisierungsfunktionen machen es ideal für die Herstellung von großen Muster-Bereich Lithographie. Die Single-Chip-Architektur und der integrierte Prozesscontroller bieten zudem eine hervorragende Leistung und sind somit eine Lösung für Halbleiterhersteller.
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