Gebraucht ASML PAS 5500 / 300C #9309192 zu verkaufen

ASML 5500/300C Wafer Stepper ist eine kompakte und kostengünstige Belichtungsanlage zur Herstellung von Photomasken für die Herstellung von Halbleitern. Der Stepper verfügt über eine intuitive und benutzerfreundliche grafische Oberfläche, die es dem Benutzer ermöglicht, die Einstellungen für die perfekte Ausrichtung und Belichtung von Wafern einfach anzupassen. ASML 5500/300C verwendet eine Dual-Drop, lasergestützte Stepper-Architektur, die zwei überlappende Belichtungsmuster für jede Ebene erzeugt. Dadurch wird eine genaue Positionierung des freiliegenden Wafers gewährleistet und eine kleinere, gleichmäßigere Formelementgröße erzeugt. Das System verfügt auch über eine patentierte „Laser-assisted Defocusing“ (LAD) -Einheit, die es der Maschine ermöglicht, den Fokus des Laserstrahls genau an die Oberfläche des Wafers anzupassen, um eine optimale Ausrichtung und Belichtung zu gewährleisten. ASML 5500/300C Stepper ist mit einem großen Sichtfeld (118 x 97 Millimeter) und einem speziellen großflächigen Strahlteiler ausgestattet, der es dem Werkzeug ermöglicht, große Bereiche eines Wafers schnell zu scannen, um hochauflösende Bilder und Features zu rendern. Dies hilft, Zykluszeiten deutlich zu reduzieren und die Gesamtbelichtungsqualität zu verbessern. Neben seinen Belichtungsfunktionen verfügt ASML 5500/300C Wafer Stepper auch über eine umfassende Prozesssteuerung. Dieses Modell ermöglicht es dem Gerät, die Position des Wafers während des Belichtungsprozesses automatisch zu überwachen, um wiederholbare Ausrichtungs- und Belichtungsparameter zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das System über eine integrierte Defect Detection Unit (DDS), die es der Maschine ermöglicht, während des Belichtungsprozesses Fehler im Muster zu erkennen und zu beheben. Schließlich ist ASML 5500/300C Wafer Stepper mit einer breiten Palette von Objektivoptionen kompatibel, einschließlich telezentrischer Linsen, Skalenlinsen und Verschiebungslinsen, was hilft, Genauigkeiten von bis zu 0,3 Mikrometer zu gewährleisten. Dies hilft, Photomasken mit der höchstmöglichen Auflösung zu erstellen, so dass der Benutzer feinste Details in seinen Mustern erreichen und ihnen die bestmögliche Herstellung von Halbleiterteilen ermöglichen kann. Zusammenfassend ist ASML 5500/300C Wafer Stepper ein anspruchsvolles, aber intuitives Belichtungswerkzeug, das Anwendern eine hohe Belichtungsgenauigkeit und Kontrolle bietet. Die vielfältigen Funktionen des Asset ermöglichen es dem Anwender, mit minimalem Aufwand schnell hochauflösende Muster zu rendern. Dank seiner fortschrittlichen Prozesskontroll- und Fehlererkennungssysteme sorgt das Modell für maximale Erträge und Qualität.