Gebraucht ASML PAS 5500 / 400C #9049031 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9049031
Weinlese: 1993
i-Line Stepper, 8"
Process: i-line 4x
Uniformity: 1.0
Software: UNIX
Basic configuration:
SMIF
SECE I/II
6" Reticle
Wafer OF type: flat zone
Inline flow right
Software:
Main computer: ULTRA-10
Software version v8.9.0
Y2K completion
WL&RL:
WL port numbers 1 and 2
Lens and illumination:
Lens type: 40
Max NA: 0.65
BMU type: Standard
Apperture annular: 0.85/0.55
Laser: lamp
Stage: 250mm/sec, pin chuck
Packing list:
Main
Power supply device
Air pressure control
S&T temp control electronic control
OCU
Reticle change
Wafer changer
1993 vintage.
ASML PAS 5500/ 400C Wafer Stepper ist eine fortschrittliche Mikrolithographie-Maschine weit verbreitet in der Halbleiterindustrie verwendet. Es ermöglicht die präzise Herstellung von integrierten Schaltungen, die Schicht für Schicht auf Wafer gedruckt werden. Das Gerät verwendet eine optische Baugruppe, die auf einer bewegungsgesteuerten Drehplattform montiert ist, um Muster genau auf die Oberfläche des Wafers abzubilden. Das Abbildungssystem besteht aus einem Laserstufen/Scanner mit einer optischen Anordnung, die eine Projektionslinse, einen Strahlkondensator und eine Lichtquelle enthält. Es enthält auch einen erweiterten Infrarot-Bildgebungssensor, Fokussierungs- und Ausrichtungsziele und eine Retikelstufe. Der Wafer-Stepper ist in der Lage, Schicht auf Schicht aus Photolack auf den Wafer mit einer Auflösung von 250 nm abzubilden. Die optischen Montagemontagen ermöglichen eine Reihe von Retikeln, von einer grundlegenden 1x Reduktion bis zu 4x Reduktion bei erweitertem Sichtfeld (FOV). Darüber hinaus ist das Gerät mit einer fortschrittlichen Ausricht- und Nivelliermaschine ausgestattet, die eine Positionsgenauigkeit von bis zu 4 nm und eine Neigungsgenauigkeit von 0,2 mrad bietet. Die Optik kann in XYZ-Richtung mit einer maximalen Geschwindigkeit von 1,2 m/s positioniert und gesteuert werden. Der Wafer-Stepper ist in der Lage, für Umweltfaktoren wie Schwingungen und Temperaturschwankungen automatisch zu erkennen und sich selbst zu korrigieren. Es verwendet ein fortschrittliches thermisches Regelwerkzeug, um eine gleichmäßige Temperatur aufrechtzuerhalten. All dies liefert die erforderliche Genauigkeit, um eine hohe Ausbeute an Geräteherstellung zu gewährleisten. Darüber hinaus nutzt ASML PAS 5500/400 C einen High-End-Computer zur Steuerung und Überwachung der Anlage sowie zur Implementierung von prädiktiven Modellen und Qualitätskontrollmetriken. Darüber hinaus ist PAS 5500/ 400C mit einer hochpräzisen Stufe für den automatischen Austausch von Wafern und Retikeln ausgestattet. Das Modell enthält auch eine spezielle Sicherheitseinheit, um einen unbeabsichtigten Kontakt mit der Optikbaugruppe zu verhindern. Der Wafer-Stepper ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien und Substraten zu verarbeiten, von Photomasken und Optik bis hin zu Quarzscheiben und dünnen Filmen. Es kann mehrere Operationen wie Belichten, Ätzen, Reinigen und Beschichten durchführen. Insgesamt ist PAS 5500/400 C Wafer Stepper eine fortschrittliche Mikrolithographie Ausrüstung, die hochpräzise Bildgebung und Musterung Fähigkeiten für die Halbleiterindustrie bietet. Es ist mit fortschrittlicher Abbildungsoptik, einem computergesteuerten Positionierungs- und Wärmesteuerungssystem und einer Wafer-zu-Retikel-Austauscheinheit ausgestattet. Diese Funktionen ermöglichen es dem Gerät, Umweltschwankungen zu identifizieren, zu kompensieren und zu korrigieren und gleichzeitig die notwendige Verarbeitung mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit durchzuführen.
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