Gebraucht ASML PAS 5500 / 400D #9207081 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9207081
Weinlese: 2004
Step and scan system, 8"
Imaging performance:
Resist: Ultrai 123
Through focus:
Dense lines: 25 nm
Specification: ≤35 nm
Isolated lines: 20 nm
Specification: ≤50 nm
Best focus:
Dense lines: 15 nm
Specification: ≤25 nm
Isolated lines: 13nm
Specification: ≤25 nm
Main body
OCU
IL Bottom module
C&T Cabinet
Arms
WTS
Cover set
Electronic cabinet
Wafer stage
Airco unit
R-Chuck box 1
Accessory box 1
Accessory box 2
Accessory box 3
Accessory box 4
SECS / GEM: Yes
2004 vintage.
ASML PAS 5500/ 400D ist ein Waferstepper zur Übertragung von Mustern auf die Oberfläche von Halbleitersubstraten. Es ist eine hochpräzise Maschine, die komplexe Muster herstellen kann, die die Entwicklung einer Vielzahl fortschrittlicher Halbleitertechnologien unterstützen. Durch den Einsatz einer UV-Lichtquelle, einer hochmodernen Optik und einer präzisen Ausrichtung ist der Stepper in der Lage, eine auf einen Wafer aufgebrachte Photolackschicht mit einer Anordnung extrem kleiner Strukturen schnell zu belichten. Die Optik von ASML PAS 5500/400D enthält eine varifokale Linse, einen Plattenspiegel und zwei Faltspiegel, die alle bei der Beleuchtung und Abbildung des Substrats eingesetzt werden. Die Linse besteht aus zwei Spiegeln, die den Abbildungswinkel des Druckstrahls einstellen, und einem Galvanometergerät, das zur Steuerung der Position der Abbildungslinse dient. Der Plattenspiegel dient dazu, das Substrat entlang der x- und y-Achse abzutasten, um die gewünschte Bildauflösung zu erhalten. Schließlich helfen die beiden Faltspiegel bei der Ausrichtung und Fokussierung des Abbildungsstrahls auf die Photoresistschicht. Der Stepper ist zudem mit einem dynamischen Liniengenerator (DLG) ausgestattet, mit dem der Abbildungsstrahl genau auf den Wafer nanometergenau ausgerichtet wird. Durch die Verwendung der zweidimensionalen DLG-Matrix wird die Strahlposition kontinuierlich entsprechend der Bewegung des Wafers eingestellt. Dadurch wird sichergestellt, dass der bildgebende Prozess bei jeder Belichtung genau und wiederholbar ist. Neben der Optik ist der PAS 5500/400 D auch mit einer Reihe fortschrittlicher Steuerungs- und Sicherheitsfunktionen ausgestattet. Dazu gehört ein hochentwickeltes prädiktives Steuersystem, das den optischen Abbildungswinkel kontinuierlich anpasst, um sicherzustellen, dass das Bild mit jeder Belichtung konsistent bleibt. Darüber hinaus verfügt der Stepper über eine leistungsstarke Vakuumeinheit zur Aufrechterhaltung der Substrathaftung auf der Platte, so dass der Prozess in einer extrem sauberen Umgebung stattfindet. PAS 5500/ 400D ist ein hochmoderner Wafer-Stepper, der bei jeder Belichtung präzise Muster erzeugen kann. Seine überlegene Optik, fortschrittliche DLG und prädiktive Steuerungsmaschine sorgen dafür, dass der bildgebende Prozess bei jeder Belichtung genau und wiederholbar ist. Darüber hinaus ermöglicht das leistungsstarke Vakuumwerkzeug den Prozess in einer extrem sauberen Umgebung. Das macht ASML PAS 5500/400 D zu einem wertvollen Werkzeug für diejenigen in der Halbleiterindustrie, die höchste Präzision und Genauigkeit in ihrem Produktionsprozess benötigen.
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