Gebraucht ASML PAS 5500 / 400D #9237241 zu verkaufen

ASML PAS 5500/ 400D ist eine Lithographieausrüstung zur Herstellung mikroelektronischer Geräte wie integrierte Schaltungen, Mikrostrukturen und Sensoren. Es verwendet ein modernes optisches Projektionslithographieverfahren, um diese Mikroskalenvorrichtungen auf Wafern zu erstellen. Diese Maschine besteht aus einer Maske und einem Linsensystem, das zu einer Waferstufe kombiniert ist. Die Linseneinheit ermöglicht eine hohe Auflösung von Mustern bis auf wenige Nanometer. Der Fokus der Linse liegt in der 0.255 numerischen Aperturstufe und ist für unterschiedliche Brennweiten einstellbar. Diese Linsenmaschine ist auf einer linearen Abtaststufe montiert. Diese Scanstufe bewegt die Maske und die Waferstufe in x-y-Richtung. Der maximale Scanbereich beträgt 400mm mal 400mm mit der höchsten Scangeschwindigkeit von 75mm/s. Das Maskenwerkzeug ermöglicht eine genaue Registrierung des Musters auf dem Wafer. Es ermöglicht auch eine stabile bildgebende Umgebung über dem Wafer. Dies wird durch die Montage mehrerer Linsensysteme und Masken auf derselben Bühne erreicht. Das Muster der Maske ist in zwei Teile unterteilt: den Bildteil und eine Referenzdaten, mit denen das Muster auf dem Wafer registriert wird. Der Bildteil wird durch Photomaskenmuster gebildet, die durch die verteilten Bilder von Kundenmustern erzeugt werden. Die Waferstufe ermöglicht eine schnelle und genaue Übertragung der Musterbilder von der Maske auf den Wafer. Diese Stufe besteht aus einem Spannfutter, einer Sichteinheit und einer Lastverriegelungseinheit. Das Spannfutter hält den Wafer während des Belichtungsprozesses mit einem Vakuumverfahren fest. Die Vision-Einheit verfügt über zwei CCD-Kameras für die Ausrichtung auf die Maske und überwachen das Be- und Entladen der Wafer. Die Lastschloßeinheit ist mit einem Filter für saubere Luft ausgestattet, um die Wafer in und aus der Bearbeitungskammer zu übertragen und zu entfernen. Abschließend ist ASML PAS 6200/400D ein leistungsstarker Wafer-Stepper, der eine schnelle und genaue Produktion mikroelektronischer Komponenten ermöglicht. Sein Objektiv-Asset bietet eine Auflösung bis auf wenige Nanometer, während das Maskenmodell eine genaue Registrierung des Musters auf dem Wafer ermöglicht. Die Wafer-Bühne ermöglicht eine genaue und schnelle Übertragung der Musterbilder von der Maske auf den Wafer. Das hochmoderne Design macht es zu einem idealen Werkzeug für die Herstellung von mikroelektronischen Geräten in großen Stückzahlen.