Gebraucht ASML PAS 5500 / 400D #9269681 zu verkaufen
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ID: 9269681
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2004
i-Line stepper, 8"
Lens type: 40
SMIF
Automation online component: SECE I / II
Reticle size: 8"
WH Type: Edge sensor
Inline flow: Right
(2) WL Port numbers
PPD Type: IRIS
Lens and Illumination:
Max NA: 0.7
Bottom module type: Aerial 1
Stage:
Scan speed: 250 mm/sec
Chuck: Pin chuck
2004 vintage.
ASML PAS 5500/ 400D ist ein in der Halbleiterindustrie für die Photolithographie verwendeter Waferstepper. Es ist eine komplexe bildgebende Ausrüstung, die eine Vielzahl von Präzisionslinsen und Aktorsystemen verwendet, um ein Muster auf eine Oberfläche von beschichteten Wafern zu projizieren. Das Tool nutzt neue Innovationen, darunter halbautomatisierte Linsen und Wafer-Bühnensysteme. Dieses System kann belichtete Substrate mit minimalen Fußabdrücken von 6-7nm für die Produktion verarbeiten. ASML PAS 5500/400D verwendet einen KrF (Krypton Fluoride) Excimerlaser, der durch seine überlegene Optik optimale Klarheit erzeugt. Dieser Laser erzeugt 248nm ultraviolettes Licht, das verwendet wird, um die Muster der Maske auf den Wafer zu übertragen. Um die Genauigkeit der Maskenausrichtungen und die Wiederholbarkeit des Prozesses zu erhalten, bietet die patentierte, betätigte Spiegelabtasteinheit eine präzise Ausrichtung des Laserlichts entlang der X- und Y-Achse. Dadurch entsteht ein präziser Scan über den Wafer. PAS 5500/400 D verfügt über eine innovative Waferstufe, die es der Maschine ermöglicht, eine Kombination aus Vibrationsunterdrückung und fortschrittlichen Bewegungssteuerungsalgorithmen zu verwenden. Dieses Wafer-Stage-Tool verfügt über einen Anti-Clamp-Schutz, eine optimale Nachverfolgung und ein Auto-Focus-Element für hohe Genauigkeit während des Scans. Dieses fortschrittliche Modell stellt sicher, dass Wafer während des gesamten Scans quadratisch und zentriert bleiben. Das Werkzeug verfügt auch über eine binäre Optik, um Licht von der Maske gestreut zu isolieren. Sein Substrathalter mit hoher Kapazität ist in der Lage, 12 "-Wafer zu verarbeiten und bietet automatisierte Lösungen für die Photolackbeschichtung. Um die höchste Bildauflösung zu gewährleisten und eine größere Bandbreite an Belichtungspegeln zu ermöglichen, ist das Werkzeug auch mit einer Hochleistungsobjektiv-Ausrüstung ausgestattet. Dieses einstellbare System kann die Fokustiefe reduzieren und gleichzeitig die Überlagerungsgenauigkeit erhöhen. Das Gerät verwendet auch eine Präzisions-Laserstrahl-Ablenkmaschine, die von einem patentierten Paar Oszillatoren angetrieben wird und horizontale Überlagerungen mit einer Genauigkeit von 0,50 Mikrometern ermöglicht. Schließlich ist PAS- 5500/400D für maximale Verfügbarkeit und Produktionsvolumen konzipiert, mit einem erweiterten Diagnosetool, das Echtzeit-Werkzeugstatusinformationen liefert. Auf diese Weise können Bediener die Werkzeugleistung einfach auswerten und die volle Kontrolle über das Prozessfenster behalten. Dieser Vermögenswert macht auch von einem Hochleistungsdatenerfassungsmodell Gebrauch, um Ladezeit und Zunahmenmusterdurchfluss zu reduzieren. Diese Ausrüstung bietet unübertroffene Wiederholbarkeit und Durchsatz für die Produktion Exzellenz.
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