Gebraucht ASML PAS 5500 / 550D #9191419 zu verkaufen

ASML PAS 5500 ist ein Wafer-Stepper zur Herstellung von ultra-miniaturisierten Halbleiterbauelementen. Das Gerät verwendet ein Abtastlasersystem, das die Oberfläche eines Siliziumwafers nacheinander beleuchtet. Jeder dem Laser ausgesetzte Bereich wird in eine Reihe von Belichtungsbereichen unterteilt, die dann in einem maskenlosen Direktverfahren auf den Wafer aufgedruckt werden. Der PAS 5500 verfügt über eine moderne Bildgebungseinheit, einschließlich eines Beugungsgitters erster Oberfläche, einer optischen Bildgebungsmaschine und einer Laserquelle mit zwei Wellenlängen. Das Werkzeug hat einen Laserwellenlängenbereich von 530-570 nm, mit einer Punktgröße von 1 μ m. Die Waferstufe unterstützt eine maximale Substratgröße von 200mm sowie eine Scheiben-Linsen-Trennung von 6 Zoll. Der Stepper bietet zudem eine hochpräzise Stufen- und Wiederholpositionierung mit einer Wiederholbarkeit von +/- 1 um. Seine hohe Auflösung ermöglicht die Schaffung ultrafeiner Merkmale und Strukturen mit minimalen Linienbreiten von 0,1 bis 1,0 Mikrometern und einer Steigungsgenauigkeit von weniger als 0,5 Mikrometern. Es verfügt auch über erweiterte Ausrichtungsfunktionen mit einer Ausrichtungsgenauigkeit von 30nm. Der PAS 5500 verfügt über eine leistungsstarke Lichtquelle, die eine maximale Leistung von 10 kW bei 500 nm und eine maximale Asset-Intensität von 1,3 J/cm2 bietet. Das Modell hat einen maximalen Durchsatz von 600 Wafern pro Stunde und eine maximale Belichtungsfläche von 4 x 5 Mikrometern. Seine erweiterte Batch-Belichtungsfähigkeit ermöglicht ununterbrochene Musteraufträge mit Großfeld- und Mehrstufenexpositionen. Das Gerät verfügt über eine automatische Ausrichtungslogik, die automatisierte Mustersuche und Ausrichtungskorrekturen in Echtzeit durchführt. Es bietet auch eine AutoFocus-Funktion, die den optimalen Fokus basierend auf Wafer-Topographie trifft. Der PAS 5500 ist ein vielseitiger Wafer-Stepper für Photolithographie und Nanoimprinting. Es bietet eine hohe Ausbeute und hochauflösende Bildgebung für die Herstellung von ultra-miniaturisierten Halbleiterbauelementen. Das System ist eine ideale Wahl für Hersteller, die eine schnelle, zuverlässige und energieeffiziente Schrittlösung für ihre Produktionsanforderungen benötigen.