Gebraucht ASML PAS 5500 / 700B #293779167 zu verkaufen

Hersteller
ASML
Modell
PAS 5500 / 700B
ID: 293779167
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
DUV Stepper, 8" CIM: SECS SMIF Interface Wafer transfer unit handler system C&T Cabinet Operator console unit Integral slit uniformity: Annular: ≤ 1.2 Conventional: ≤ 1.2 Illumination intensity: Annular: 2400 Conventional: 2400 X and Y Moving standard deviation: ≤ 30 nm X and Y Moving average: ≤ 15 nm Dose repeatability and accuracy: Dose repeatability: ≤ 0.7% Dose accuracy: ≤ 2.0% SAMOS: ≤ 5.5 Image plane deviation: ≤ 175 Astigmatism: ≤ 125 Best focus (Dynamic): 0±35 nm Image sensor measurements: Focus repeatability: ≤ 30 nm (Rx) Scan axis tilt repeatability: ≤ 6.0 μrad (Ry) Scan axis tilt repeatability: ≤ 2.0 μrad Translation repeatability: ≤ 10 nm Magnification repeatability: ≤ 1.0 ppm Die rotation repeatability: ≤ 1.0 μrad 1999 vintage.
ASML PAS 5500/ 700B ist ein hochmoderner Waferstepper, der in der Photolithographie eingesetzt wird. Es ist eine Scanausrüstung mit einem befehlsgebenden Kern, die genaue, kontinuierliche Bewegung und Langzeitstabilität aufweist. Seine Hauptanwendung liegt in der Herstellung von Halbleiterbauelementen, wobei ein vorgestreckter Wafer auf den Stepper übertragen wird und eine Präzisionsausrichtung mit lithographischen Belichtungen erreicht wird. Der Stepper ist ein vollautomatisches computergesteuertes Bildgebungssystem. Es enthält einen hochpräzisen Metallrahmen, die sogenannte Waferstufe, die sowohl die X- als auch Y-Achse der Bewegung hat. Die Stufe ist motorisch angetrieben und hat die Fähigkeit, sich in 0,5- bis 4,0-Mikron-Intervallen zu bewegen. Es hat auch die Fähigkeit, seine Position mit einer Genauigkeit von 0,1-Mikron-Schritten zu messen. Sein linearer Encoder ermöglicht eine wiederholbare Steuerung der Bewegung der Bühne. Die Waferstufe nimmt Wafer bis 10 "Durchmesser mit maximal 45 mm Dicke auf. Der Stepper kann Wafer mit einem Dickenbereich von 7 µm bis 5 mm aufnehmen. Zusätzlich zur Unterstützung von Wafern unterschiedlicher Ebenheit enthält der Stepper eine Kalibriereinheit, die Formfehler erkennen und belichtete Bilder korrigieren kann. PAS 5500/ 700B ist mit einer Hochleistungslichtquelle und einer Reihe von hochauflösenden Objektiven ausgestattet. Es bietet eine Reihe von Belichtungen, einschließlich Linie/Raum und Kontaktbelichtungen, sowie High-Aspect-Ratio und komplexe Formmaskierung. Darüber hinaus ermöglicht der erweiterte optische Aufbau und die Spiegelmaschine die Feinabstimmung des Fotolackfokus und der Schärfentiefe. Der Stepper ist zudem mit einem leistungsstarken Bildanalysetool ausgestattet. Es ist in der Lage, Fehler und Nichtkonformitäten in Bildern auf einem Niveau von 0,25 µm zu erkennen. Dies ermöglicht nahezu perfekte Wafer ohne Defektivität. Das robuste, zuverlässige und rekonfigurierbare Design des ASML PAS 5500/ 700B ermöglicht einen schnellen, hochauflösenden Schrittbetrieb mit einer maximalen Betriebsgeschwindigkeit von 35 Belichtungen pro Sekunde. Darüber hinaus verfügt der Stepper über eine breite Palette von Granularität, von Vollfeldbelichtungen bis hin zu Teilfeldbelichtungen, die eine größere Flexibilität in Produktionsanwendungen bieten. PAS 5500/ 700B ist ein leistungsstarker und vielseitiger Wafer-Stepper, der zuverlässige, hochauflösende Leistungen bietet. Es ist ein geeignetes Werkzeug zur Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente. Die fortschrittliche Optik, die bildgebende Ausstattung und der automatisierte Betrieb ermöglichen eine hocheffiziente und präzise Lithographie.
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