Gebraucht ASML PAS 5500 / 700B #293817853 zu verkaufen

ASML PAS 5500 / 700B
Hersteller
ASML
Modell
PAS 5500 / 700B
ID: 293817853
DUV Stepper Numerical Aperture (NA): 0.7 Resolution: 150 nm Throughput (WPH): 104.
ASML PAS 5500/ 700B Wafer Stepper ist ein hochpräzises Lithographie-Tool, das bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. PAS 5500/ 700B enthält High-End-Optik, Designfunktionen und spezielle Software, um die Designschicht auf einem Silizium-Wafer mit einer Auflösung von bis zu 0,33 Mikrometern genau zu mustern. Die Ausrüstung basiert auf dem Industriestandard Step-and-Repeat-Ausrichtung und Belichtung lithographischen Prozess. Die optische Säule verwendet alternierende Aperturrelaisoptiken, die die Bildauflösung maximieren und gleichzeitig Verzerrungen minimieren, die durch die Wirkung von Off-Axis-Licht verursacht werden. Das System ist mit 4-Kanal-Segmenten (4Cs) Einheit ausgestattet, um die Belichtung von Merkmalen an verschiedenen Brennpunkten auf dem Wafer zu ermöglichen. Dadurch kann die Maschine das Licht genauer fokussieren und eine höhere Auflösung in Schrägrichtung erzielen. Der Scannermotor, der die primäre Komponente im Werkzeug ist, ist hoch fortgeschritten und steuert die X-Y-Linearbewegung des Wafers genau. Es hat hohe Geschwindigkeit für schnelle Belichtung und hohe Genauigkeit für präzise Belichtung während der Steuerung von Vibration und Jitter. Der Stepper umfasst auch mehrere Teilsystemkomponenten wie Beleuchtungskomponente, Retikelstufe, Wafer-Futter, Abbildungslinse und Bildsteuereinheit. Das Beleuchtungsmodell enthält jeweils einen Satz von Anzeigelampen, Kondensatoren und Schlitzlampen. Mit Hilfe spezieller Software werden diese Komponenten verwendet, um die genaue Belichtung der Konstruktionsschichten zu gewährleisten. Die Retikelstufe ist eine 6-Grad-Freiheitsstufe, mit der die Maske in die richtige Richtung und Ausrichtung und auf die Brennebene bewegt wird, um die Auflösung zu verbessern. Das Wafer-Spannfutter ist verantwortlich für die Aufrechterhaltung des Fokus und der Ebenheit der Waferoberfläche, um die genaue Verteilung des Lichts während der Emission zu gewährleisten. Die bildgebende Linse ist mit spezialisierten Materialien gebaut, um das Bild auf die Maske zu übertragen. Es enthält eine Fehlerkorrekturausrüstung, um eine geringe Verzerrung zu gewährleisten. Schließlich ist die Bildsteuereinheit (ICU) für die Steuerung der Gesamtbelichtungszeit und -bedingungen verantwortlich, um die genaue Belichtung des Wafers zu gewährleisten. Alle diese Komponenten arbeiten zusammen, um eine wiederholte Belichtung von hochauflösenden Bildern auf dem Wafer zu gewährleisten. Mit seiner High-End-Technologie ist ASML PAS 5500/ 700B ideal für Chiphersteller, um hochleistungsfähige Komponenten herzustellen.
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