Gebraucht ASML PAS 5500 / 750E #293812100 zu verkaufen

ASML PAS 5500/ 750E ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper, der speziell für die Anforderungen und Herausforderungen der Halbleiterproduktion entwickelt wurde. Es ist ein großer Immersionsprojektionsstepper, der für extrem genaue, hochauflösende Photolithographie- und Wafer-Overlay-Anwendungen optimiert ist. Die Ausrüstung ist in der Lage, qualitativ hochwertige lichtempfindliche Düsen für die Herstellung von Hochleistungs-, Hochleistungs- und zuverlässigen Halbleiterbauelementen herzustellen. PAS 5500/ 750E besteht aus einem optischen Teilsystem, einer Granitbasis, einer zweiachsigen Translationsstufe und einem motorischen Träger. Sein Projektionsoptiksystem besteht aus einer unendlich korrigierten, achromatisierten hochnumerischen, katadioptrischen Objektivlinse mit einem maximalen Feld von 1,2 mm. Das optische Teilsystem ist außerdem mit einem Laserinterferometer und einem telezentrischen Strahlteiler ausgestattet. Zusätzlich ist der Stepper mit einer 10X-Kamera und einer digitalen Stufe mit 1,5 mm Tonhöhenauflösung ausgestattet. Die Granitbasis, die für strukturelle Stabilität und Schwingungsdämpfung sorgt, ist integral zur unflexibel engen Prozesssteuerung der Einheit. Die Translationsstufe enthält einen rückgekoppelten Linearmotor und wird von einer digitalen Bewegungssteuerungsmaschine mit 0,5 µm Wiederholbarkeit und 5 µm orthogonaler Genauigkeit angetrieben. Der Motorantrieb wird von einem ASML-Elektronikmodul gesteuert und enthält eine Echtzeit-Transformationsschaltung zur genauen Steuerung der beiden Bewegungsachsen. Die Motorunterstützung hat eine maximale Stromtragfähigkeit von 5.5A. Das Steuerungstool des Steppers basiert auf einem Linux-Betriebssystem und ist mit einem Wafererkennungsmodell (WRS), programmierbaren Musterebenen, Feldverschiebung, Maskenmissbrauchsschutz und zweitem Kontakt ausgestattet. Die WRS identifiziert Wafergröße und -dicke und passt die Mustererzeugungseinstellungen entsprechend an. Insgesamt ist ASML PAS 5500/ 750E eine ideale Lösung für High-End-Photolithographie-Anwendungen aufgrund seiner fortschrittlichen Optik, Präzisionsbewegungssteuerung und anderen Funktionen, die es hochgenau, zuverlässig und produktiv machen.