Gebraucht ASML PAS 5500 / 750E #293829886 zu verkaufen

ASML PAS 5500/ 750E ist ein Wafer-Stepper, der verwendet wird, um eine hohe Genauigkeit der Photolithographie während des Halbleiterherstellungsprozesses zu geben. Es hat die Fähigkeit, eine breite Palette von Auflösungen zu erreichen, so dass es eine praktikable Wahl in verschiedenen Stufen der IC (integrierte Schaltung) Produktion. Diese Stepper-Funktion ist seine Fähigkeit, eine 28nm Linienbreite und die kleinste 0,1 Mikron Auflösung zu produzieren. PAS 5500/ 750E verwendet eine zweiachsige Struktur, basierend auf den X- und Y-Koordinaten, um Schrittmuster zu erzeugen, die in die Halbleiteroberfläche geschnitten werden. Diese Vorrichtung ermöglicht die Verwendung eines Beschichtungs- und Schichtvorganges, wodurch sowohl die Strukturierungs- als auch die Ätzvorgänge in einer einzigen Maschine erfolgen können. Weitere Vorteile von ASML PAS 5500/ 750E sind die Möglichkeit, die Auflösung schrittweise auf bis zu 0,1 Mikron zu erhöhen, und die Tatsache, dass sie auch Korrekturen und Anpassungen des Waferlayouts auf Mikroebene aufnehmen kann. PAS 5500/ 750E besteht aus einer 248nm I-Source, einem laseroptischen Ausrichtsystem, Laserscanner-Komponenten und einer Projektionseinheit. Der I-Source ist ein Hochleistungslaser, der sowohl für Soft- als auch Hartkontaktmodi der Lithographie geeignet ist. Mit Hilfe sowohl von Beleuchtungs- als auch Abtastspiegeln des Laserscanners können Waferaufnahmen mit hoher Gleichmäßigkeit erreicht werden. Diese Laserscanner und Spiegel sind integraler Bestandteil des Lithographieverfahrens. Die Projektionsmaschine sendet ein Abbildungsmuster direkt an den Wafer, wo für jeden Schuss eine individuelle Belichtung erfolgen muss. Das Tool ermöglicht die Unterbrechung eines bildgebenden Auftrags, um zusätzliche Aufnahmen hinzuzufügen und die Anzahl der Aufnahmen zu ändern, wenn sich die Ebenenplatzierung ändert. Gleiches gilt für Einzel- und Mehrstufenmuster, die einen kompakten Lithographiestapel ermöglichen. ASML PAS 5500/ 750E ist zudem mit einem überlegenen Interferometer ausgestattet, das die Ausrichtung der Spiegel in den Laserscans unterstützt. Dadurch wird sichergestellt, dass die bestmögliche Bildgebung mit den besten wirtschaftlichen Ergebnissen erreicht wird. Darüber hinaus ist die Anlage mit einem leistungsstarken Motormodell ausgestattet Die Reaktion der Motorausrüstung kann 0,2 ms erreichen, so dass hochgenaue und komplexe Muster in den Wafer geschrieben werden können. Das System verfügt auch über einen Zweimodus-Stepper, was bedeutet, dass entweder zweidimensionale Sehnähte oder eindimensionaler Scan-Modus verwendet werden können, um Fehler oder Änderungen im Muster schnell und genau zu lokalisieren. Alle diese Merkmale kombiniert machen PAS 5500/ 750E eine zuverlässige und wirtschaftliche Wahl für hochpräzise Photolithographie.