Gebraucht ASML PAS 5500 / 750F #293817856 zu verkaufen

ASML PAS 5500/ 750F ist ein maskenloser Lithographie-Wafer-Stepper der nächsten Generation, der von ASML, einem Technologieführer in der Halbleiterindustrie, entwickelt wurde. Es ist eine High-End, Vollfeld, i-line Immersion Lithographie Ausrüstung für die Herstellung von IC-Muster an den 45-Nanometer und unter Knoten bestimmt. PAS 5500/ 750F ist mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen ausgestattet, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Es verfügt über ein 150 Nanometer NA, ein Ohara Fused Silica Coated Substrate (FSCS) für hohe NA-Bildgebungsleistung, einen 750 Watt Laser und eine Off-Axis-Beleuchtung für verbesserte Tiefenschärfe (DOF). Die hohe NA und robuste Beleuchtung unterstützen beim Drucken höherer Auflösung und komplexer Vias und Löcher bei gleicher Belichtung. Das System verfügt auch über eine Zoom-Fähigkeit zur Erstellung mehrerer verschiedener Feldgrößen für alle Maskengrößen von 10mm x 10mm bis 200mm x 200mm. ASML PAS 5500/ 750F ist mit fortschrittlicher Bildgebungstechnologie ausgestattet, um eine überlegene Platzierungsgenauigkeit und Overlay-Leistung zu gewährleisten. Es ist in der Lage, eine maximale Überlagerungsgenauigkeit von +/- 5 Mikrometer und eine maximale Platzierungsgenauigkeit von +/- 10 Mikrometer über die 200 mm Waferstufe zu erreichen. Es verfügt auch über einen High-Speed-Raster-Scan-Modus, rotierende Bildebene (RIP) -Technologie und eine Bewegungskorrektur-Einheit. Diese Funktionen ermöglichen es der Maschine, die Maskenfunktionen über den Wafer schnell und präzise zu scannen. PAS 5500/ 750F wurde entwickelt, um Fehler über den gesamten Wafer zu reduzieren. Um Substratbeladungs- und Entladefehler zu reduzieren, verfügt es über eine kamerabasierte Substratausrichteinheit, die eine präzise Ausrichtung des Wafers auf die Achse ermöglicht. Es verfügt auch über ein aktives Ausrichtungswerkzeug, um Fehler durch Elementverformung und Fehlausrichtung zu reduzieren. Die Wafer-Belichtungsoptik ist auch mit Merkmalen aufgebaut, die Musterverschiebungen reduzieren und den Wafer weiter vor Verschmutzung schützen. ASML PAS 5500/ 750F ist in der Lage, Merkmale und Merkmale mit komplexen Geometrien zu wiederholen, ohne auf Mustertreue und Auflösung zu verzichten. Es verfügt auch über eine zuverlässige und wartungsarme Laserquelle, die eine erhöhte Betriebszeit bei minimaler Wartung ermöglicht. Darüber hinaus können die erweiterten Bildverarbeitungssuiten dazu beitragen, Bildverzerrungen zu identifizieren, die durch Aberrationen oder Vibrationen im optischen Asset verursacht werden. Abschließend ist PAS 5500/ 750F ein fortschrittliches Lithographiemodell, das höhere Auflösungsmuster mit überlegener Platzierungsgenauigkeit, Overlay-Leistung und Mustertreue erzeugt. Es verfügt über eine hohe NA, Zoomfunktionen, verschiedene Bildgebungstechnologien und aktive Ausrichtung, um eine optimale Leistung zu gewährleisten und Fehler zu reduzieren.